雷射燒蝕沉積(laser ablation deposition)是2019年公布的物理學名詞。
基本介紹
- 中文名:雷射燒蝕沉積
- 外文名:laser ablation deposition
- 所屬學科:物理學
- 公布時間:2019年
雷射燒蝕沉積(laser ablation deposition)是2019年公布的物理學名詞。
雷射燒蝕沉積(laser ablation deposition)是2019年公布的物理學名詞。公布時間2019年,經全國科學技術名詞審定委員會審定發布。出處《物理學名詞》第三版。1...
脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用雷射對物體進行轟擊,然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上,得到沉澱或者薄膜的一種手段。簡介 隨著現代科學和技術的發展,薄膜科學已成為近年來迅速發展的學科領域之一,是凝聚態物理學和材料科學的一...
雷射燒蝕laser ablation,是電感耦合電漿質譜[ icP-MS]聯用儀器中用來分析固體樣品的一種方式。固體樣品製成片狀置於樣品台上,樣品表面處雷射束聚焦點上。使用紅寶石雷射器進行一次雷射轟擊,能在樣品上產生一個直徑很小深坑,消耗樣品讓電漿氣流過樣品表面,再經一導管導入等離子炬,樣品在焰炬中電離。雷射...
《雙束脈衝雷射技術製備大尺寸緻密均勻的SiC薄膜》是依託山東大學,由劉向東擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 本申請課題擬採用理論和實驗相結合的方法,分析雙束脈衝雷射燒蝕SiC等材料的蒸發和膨脹的物理機制。從研究產生的電漿特性入手,對雙束脈衝雷射沉積過程的主要機理做深入探討,總結出能夠產生電離效率高、...
由於Nd:YAG雷射可以通過光纖傳輸更適合工業套用,因此在雷射清洗中也多被採用。學術上說:雷射燒蝕(雷射清洗學名)或光燒蝕是通過用雷射束照射從固體(或有時為液體)表面去除材料的過程。 在低雷射通量下,材料被吸收的雷射能量加熱並蒸發或升華。 在高雷射通量下,材料通常會轉換為電漿。 通常,雷射燒蝕是指...
以批秒和非秒脈衝雷射燒蝕為對象,通過對燒蝕產物的時間,空間分辨的質譜和光譜分析,考旄吖β拭芏瘸碳す飴齔宥怨燙宓淖饔?固體表層的燒蝕,燒蝕產物的運動,雷射燒蝕電漿的產生和膨脹等,著重研究納秒和批秒時間域動力學過程和無能量注入的燒蝕電漿的蓴?並在此基礎上探索超短脈衝雷射燒蝕在薄膜沉積和成分分析...
本書的飛秒雷射動力學研究,其套用範圍涉及微納加工、光電、生物、信息和化學工程等,因而本書具有很強的科學性、原創性和實踐性。圖書目錄 前言 第1章 薄膜材料與製備方法引論 第2章 薄膜的缺陷、界面與表征 第3章 PLD技術及其Z-L模型一般描述 第4章 雷射燒蝕的基本模型與含熱源項模型 第5章 含蒸發項、熱源...
《脈衝雷射沉積Ta2O5薄膜過程及其性質研究》是傅正文創作的論文。副題名 外文題名 Characterization and processing of Ta2O5 films deposited by pulsed laser ablation 論文作者 傅正文著 導師 秦啟宗教授指導 學科專業 物理化學 學位級別 d 1998n 學位授予單位 復旦大學 學位授予時間 1998 關鍵字 雷射燒蝕 薄膜技術 ...
《一種柔性版計算機直接製版用的燒蝕黑膜及其製備方法》特點是燒蝕黑膜含有至少一種納米炭黑顆粒、一種紅外雷射燒蝕染料、兩種聚合物粘合劑,第一種聚合物粘合劑聚醯胺和第二種聚合物粘合劑單異腈酸酯改性的聚醚型聚氨酯化合物、一種結構式為R₁—X—(CH₂CH₂O)ₚ-(CHCH₃CH₂O)-R₂的超級分...
第3章 脈衝雷射沉積技術及其Z-L模型一般描述 3.1PLD技術發展過程 3.2PLD技術製備薄膜的實驗工藝 3.3PLD技術製備過程的一般描述 3.3.1PLD技術的物理圖像的一般描述 3.3.2雷射與靶材的相互作用 3.3.3電漿膨脹 3.3.4襯底上沉積成膜 3.4PLD技術的Z—L模型簡介 3.4.1脈衝雷射燒蝕靶材過程的描述 3....
《雷射濺射和ECR微波放電及離子源結合製備超硬薄膜》是依託復旦大學,由應質峰擔任項目負責人的專項基金項目。項目摘要 脈衝雷射濺射(pulsed laser ablation, PLA,或稱為脈衝雷射燒蝕)在材料刻蝕、成分分析等方面都有廣泛而成功的套用,脈衝雷射濺射另一個重要的套用方向是薄膜沉積。自從上世紀八十年代基於脈衝雷射濺射...
脈衝雷射沉積的過程可分為三個階段,1.雷射對靶的燒蝕形成電漿,2.電漿在氣氛氣體中從靶到襯底的輸運,3.輸運到襯底表面的物質形成薄膜。我們系統地研究了這三個階段所涉及的基本物理過程。在研究雷射燒蝕過程中,提出薄膜表面顆粒物來自雷射輻照靶表面所形成的錐狀體,而錐狀體則由於Rayleigh-Taylor失穩或...
近20年來,在六氟化鈾紅外雷射光敏反應,超聲分子束研究雷射氣固表面反應以及雷射燒蝕金屬氧化物反應的動力學研究中都取得了出色的成績。人物簡介 姓名:秦啟宗 性別:男 出生:1933年11月生 逝世:2009年9月26日 籍貫:浙江寧波人。職務:現任復旦大學雷射化學研究所教授,所長,博士生導師。中國化學會理事。工作性質...
Izard等研究發現碳納米管對nm至us級雷射具有限幅作用。碳納米管優異的光學性能使其在發光與顯示材料、寬頻限幅材料等方面具有潛在的套用前景。製備 常用的碳納米管制備方法主要有:電弧放電法、雷射燒蝕法、化學氣相沉積法(碳氫氣體熱解法)、固相熱解法、輝光放電法、氣體燃燒法以及聚合反應合成法等。電弧放電法 電弧...
脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(英語:pulsed laser abalation,PLA)為物理氣相沉積(英語:Physical Vapor Deposition,PVD)的一種 , 是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊,由於雷射能量強,會將靶材汽化形成等離子蕈狀團(plasma plume),並沉澱於基板上...
(3)雷射燒蝕法(PLA)雷射燒蝕法是用一束高能雷射輻射靶材表面,使其表面迅速加熱融化蒸發,隨後冷卻結晶生成的一種製備材料的方法。化學氣相沉積法 (1)熱化學氣相沉積法 (HCVD)HCVD 裝置一般由耐熱石英管和加熱裝置組成反應氣體一般採用BCl3或B2H6和NH3的混合氣體 (2)低壓化學氣相沉積法(LPCVD)LPCVD 要求氣體...