《雷射工作介質:鋇準分子機制研究》是一篇博士論文,作者是吳東宏。 基本介紹 中文名:雷射工作介質:鋇準分子機制研究作者:吳東宏導師:陸光祖學科專業:理論物理學位授予單位:吉林大學學位授予時間:1987 關鍵字鋇館藏號O561唯一標識符108.ndlc.2.1100009031010001/T3F24.012002608328館藏目錄1999\O561\1