雷射工作介質:鋇準分子機制研究

《雷射工作介質:鋇準分子機制研究》是一篇博士論文,作者是吳東宏。

基本介紹

  • 中文名:雷射工作介質:鋇準分子機制研究
  • 作者:吳東宏
  • 導師:陸光祖
  • 學科專業:理論物理
  • 學位授予單位:吉林大學
  • 學位授予時間:1987
關鍵字
館藏號
O561
唯一標識符
108.ndlc.2.1100009031010001/T3F24.012002608328
館藏目錄
1999\O561\1

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