雷射刻阻機，雷射波長為1064/532/355nm，雷射頻率為200Hz-50KHz 。
基本介紹
- 中文名：雷射刻阻機
- 雷射波長：1064/532/355nm
- 雷射平均功率：：10W / 20W / 7W(UV355)
- 雷射頻率：：200Hz-50KHz
設備特點,技術參數,套用和市場,
設備特點
--調阻精度高：先進的雷射器提供了TEM00高光束質量和極細線寬的雷射束；四線制高速測量系統，測量時間僅為25us；擁有軟體預調誤差補償功能；
--調阻速度快：先進的雷射器擁有極高的重複頻率，在保證光斑重疊率的情況下能擁有很高速度；德國進口掃描振鏡，掃描速度極快；高精度分步重複機構，空氣軸承，移動速度及加速度快；
--可靠性高：整機配置核心器件均採用原裝進口配置；採用花崗岩台座，穩定可靠；
--功能強大：擁有溫度實時補償功能；同時具有雷射劃片和打標功能；
--運行及維護成本低廉：採用半導體端面泵浦或光纖雷射器；使用壽命長，性能穩定；電光轉換效率高，節約用電成本；採用風冷系統，無須外置冷卻設備；操作簡單，無須高額培訓成本；
技術參數
--雷射器系統：
雷射類型：半導體端面泵浦雷射器 / 光纖雷射器
典型光斑尺寸：30μm
實際切口取決於材料、光學器件和波長；可根據需要選配532綠雷射或355紫外雷射最小光斑達12μm
泵浦源使用壽命：20,000—100，000小時
冷卻方式：風冷
對焦方式：電腦程式控制
--雷射束定位系統：
雷射束運動範圍：75mmX75mm（可選配其他規格）
點到點運動時間：5ms（典型）
最大速度：7000mm/s
重複定位精度：2.5μm
雷射束最小步進：0.76μm
--圖像監視系統：
監視方式：雷射同軸監視
最大放大倍數：>100倍
圖像監視顯示屏：19寸液晶
--測量系統：
激勵方式：電流/電壓激勵
恆流源：0.01μA~100mA計算機程控選擇
恆壓源：0~20V計算機程控選擇（可選其它電壓範圍）
電阻測量方式：四線制加電流測電壓
直流電壓測量：10mV~10V（滿程電壓）
調節對象發熱控制：程式可設定
電阻測量精度：低阻：<0.05%+1%/R （R<100Ω）
中阻：<0.05%
高阻：<0.05%+0.02%R（R>0.1MΩ）
電阻測量範圍：0.01Ω-500MΩ
電阻測量速度：25μs
直流電壓解析度：0.16μV（在10mV滿量程條件下）
探針板：44針11組四線制（可選其它規格）
探針板運動：電腦程式控制
--計算機及軟體系統：
工業控制計算機（雙核），17寸液晶
作業系統：Windows XP
VB平台開發的可視化套用軟體，界面友好，功能強大
--分步重複運動系統：
運動XY範圍：290x260mm
運動解析度：1μm
定位精度：小於6μm（帶誤差補償）
重複定位精度：小於3μm
最大運動速度：900mm/s
具有溫度補償等功能
--非接觸溫度測量：
溫度測量精度：0.2℃
調阻溫度修正：電腦程式控制
--其它技術指標：
供電電壓：220V AC
整機功耗：小於1000W
套用和市場
套用和市場：主要套用於厚膜、薄膜電路的精密調節。廣泛套用於厚膜混合積體電路、電子元器件、汽車電器、感測器、軍工科研、片式電阻等行業。
