雷射刻膜機

作為科技部專項資金的承擔項目，公司最近推出的第五代非晶矽薄膜太陽能電池刻膜機已通過國家驗收，“G5”無論是技術指標還是產能效率都達到世界一流水平。

基本介紹

• 中文名：雷射刻膜機
• 類別：工業產品
• 用途：切割

簡介

三工光電第五代薄膜太陽能電池刻膜機（G5）問世

該設備採用非接觸式的工作檯，不但解決了玻璃運行中的平穩性，還有效地解決了摩擦問題；使用世界一流的高性能雷射器，其性能指標包括脈衝的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到世界先進水平；另外在控制方面，採用全自動控制，包括自動進出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位，這在國際還是首創。當檢測到電池片缺陷時，可立即進行重刻和補刻；更可選擇全部檢測或抽檢。此外，“G5”屬於高標設備配置，國內的客戶基本要做的是“減法”而不是“加法”。當客戶不需要某些功能時，可根據要求去除,更可根據實際要求進行定製。

12月，江蘇強生公司斥資1000萬元訂製 “非晶矽薄膜太陽能電池成套生產設備”。 “這套國內領先、國際先進的設備，由一個一直靜默的企業製造出來，源於十餘年的積累與堅守。”三工董事長何成鵬自揭謎底。

近期，公司紫外雷射器研發項目正式啟動。紫外雷射器的研發標誌著三工光電雷射設備加工手段多樣化、市場套用廣泛化程度逐步加強。

SDF50B / SDF10D / SSF10B / SSF5D

設備性能

SDF(SSF)系列雷射刻膜機採用半導體泵浦雷射器(或全固態雷射器)，光點固定不動，工作檯帶動電池板兩維運動，或兩維分離，光點沿X軸運動，電池板沿Y軸運動，刻膜專用X-Y工作平台，伺服驅動、滾珠絲槓與導軌傳動，或X軸直線電機驅動，通過界面友好的專用控制軟體，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統，同時完成兩路或四路雷射同步輸出。

套用領域

非晶矽薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶矽膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的雷射刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。

主要技術參數

規格型號	SDF50B	SDF10D	SSF10B	SSF5D
雷射波長	1064nm	532nm	1064nm	532nm
雷射功率	50W	10W	10W	5W
雷射重複頻率	200Hz～50kHz	1kHz～100kHz
刻膜線寬	80μm	50μm
刻膜速度	200mm/s	600mm/s
刻膜精度	±10μm	±10μm
工作檯幅面	1250×640mm 或 1100×1400mm	1250×640mm 或 1100×1400mm
冷卻方式	循環水冷	風冷