離子濺射法

離子濺射法是濺射方法裡面一種常用的方法，具有鍍膜粘附性好的優點，但是其缺點是容易將離子轟擊進入基底。

基本介紹

• 中文名：離子濺射法
• 優點：鍍膜粘附性好
• 缺點：容易將離子轟擊進入基底
• 工具：真空容器

真空容器內，在高壓1500V的作用下，殘留的氣體分子被電離，形成電漿，陽離子在電場加速下轟擊金屬靶，使金屬原子濺射到樣品的表面，形成導電膜。