| 中文名稱 | 離子束濺射 |
| 英文名稱 | ion beam sputtering |
| 定 義 | 利用離子源產生一定能量的離子束轟擊置於高真空中的靶材，使其原子濺射出來，沉積在基底成膜的過程。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
| 中文名稱 | 離子束濺射 |
| 英文名稱 | ion beam sputtering |
| 定 義 | 利用離子源產生一定能量的離子束轟擊置於高真空中的靶材，使其原子濺射出來，沉積在基底成膜的過程。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
中文名稱 離子束濺射 英文名稱 ion beam sputtering 定義 利用離子源產生一定能量的離子束轟擊置於高真空中的靶材,使其原子濺射出來,沉積在基底成膜的過程。 ...
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下...
濺射方法很多,主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。...
離子束是指以近似一致的速度沿幾乎同一方向運動的一群離子。離子源用以獲得離子束的裝置。在各類離子源中,用得最多的是電漿離子源,即用電場將離子從一團...
離子束清洗(ion beam cleaning)把離子束拋光的原理套用於清洗晶片表面,稱為離子束清洗。與其他清洗方法相比,離子束清洗具有無沾污、表面結構完整、無微坑等優點。...
濺射型負離子源是指用正離子束去轟擊工作物質,就能得到該種物質的負離子。若用銫離子束去濺射周期表第Ⅳ族以後電子親合力較大的元素,可以得到該元素微安級的負...
其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術。 [1] 濺鍍濺鍍機設備與工藝 編輯 濺鍍設備 濺鍍機由真空室,排氣系統,濺射源和控制系統組成。濺射源又分為...
離子源(英文名稱:Ion source)是使中性原子或分子電離,並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕...
《聚焦離子束微納加工技術》是2006年12月1日北京工業大學出版社出版的圖書,作者是顧文琪。...
離子束顯微鏡包括液相金屬離子源、電透鏡、掃描電極、二次粒子偵測器、5 -7軸向移動的試片基座、真空系統、抗振動和磁場的裝置、電子控制臺和計算機等硬設備。外...
濺射薄膜高溫壓力變送器採用離子束濺射薄膜技術,全不鏽鋼一體化結構,高靈敏度壓力芯體,全焊接封裝在不鏽鋼殼體內,具有準確度高、輸出信號大、工作壽命長、適用溫度...
長期以來,人們發明了多種制膜技術和方法:真空蒸發沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點,並在...
3?5濺射3?5?1輝光放電濺射3?5?2磁控濺射3?5?3離子束濺射3?5?4離子、靶材與濺射率3?6離子鍍3?7離子輔助鍍3?8電漿增強化學氣相沉積...
9. 中國科學院重大科研裝備研製項目“離子束濺射與刻蝕系統”10. 中國科學院微電子研究所微電子器件與集成技術重點實驗室課題“二元金屬氧化物電阻轉變機理研究”11....
③ 各種單晶薄膜、多晶薄膜(TiN 、TiN-AlN、MgO、Pt、Ir)的雷射分子束外延生長方法及其性能的研究。④ 各種單晶薄膜、多晶薄膜(TiN 、MgO、Pt)的離子束濺射...