《雙色雷射場與原子分子相互作用及相干相位控制研究》是依託河南師範大學，由朱遵略擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：雙色雷射場與原子分子相互作用及相干相位控制研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：朱遵略
- 依託單位：河南師範大學
項目摘要,結題摘要,
項目摘要
近年來，隨著強雷射技術的不斷發展，雷射場中原子分子散射成為了熱點研究領域。該方面研究不僅可探索雷射與物質相互作用的微觀機理，還可為相關實驗研究提供強有力的理論指導。但由於雷射本身具有頻率、極化方向、脈寬等隨機特徵，雷射場的參與使得原本比較複雜的散射過程變得更為複雜，是富有挑戰性和創新性的研究課題。另外，具有倍差頻率的雙色雷射場間的相位差是影響雷射與物質作用的重要參量，因此雙色場中的相干相位控制研究也極具研究套用價值。.本項目將從無場情況下勢場描述和處理單色雷射場中電子-原子散射的微擾理論方法入手，探索雙色雷射場中各種相互作用的精確描述，形成一套研究雙色雷射場中電子與原子分子散射的高階微擾理論計算方法，系統研究雙色雷射場中電子與原子分子散射過程中的相干控制等內容。通過解析和數值計算研究，總結雙色雷射場下電子與原子分子散射中的相干控制等規律，從而探索雙色雷射場與物質相互作用的微觀機理。
結題摘要
雷射場中原子分子散射是隨著近年來強雷射技術的不斷發展而重新成為了熱點研究領域。該方面研究不僅可探索雷射與物質相互作用的微觀機理，還可為相關實驗研究提供強有力的理論指導。但由於雷射本身具有頻率、極化方向、脈寬等隨機特徵，雷射場的參與使得原本比較複雜的散射過程變得更為複雜，是富有挑戰性和創新性的研究課題。另外，具有倍差頻率的雙色雷射場間的相位差是影響雷射與物質作用的重要參量，因此雙色場中的相干相位控制研究也極具研究套用價值。 本項目在廣泛調研和前期研究結果的基礎上，完成了對粒子間相互作用的重點研究工作，經過廣泛的測算修正，完成了雷射場中原子勢場新模型的建立；利用新建立的計算研究方法對雷射場中電子-分子散射進行了計算研究。研究了雷射場中電子被CO2 分子等體系的散射截面進行計算、並與實驗結果相比較；利用建立的雙色雷射場中的相互作用勢模型和計算理論方法，對雙色雷射場中電子-原子散射過程中的相干相位控制效應進行深入初步研究。
