積體電路製造工藝光刻模組中，一種抗蝕劑曝光後可以同時進行正性顯影和負性顯影的技術。 基本介紹 中文名：雙性顯影外文名：Dual-Tone Development所屬學科：半導體、微電子 定義,原理,技術特點, 定義所謂雙性顯影，是在旋塗完光刻膠並完成曝光後，可以同時進行正性顯影和負性顯影的技術。原理在光致抗蝕劑進行正常的曝光工藝後，對潛影的基片進行兩個顯影步驟。在鹼性水溶性的正性顯影（positive-tone development）工序中，把曝光劑量在某個閾值以上的所有材料溶解掉，接著在有機溶劑的負性顯影工序中，把曝光劑量在某個特定閾值以下的所有材料溶解掉。技術特點利用雙性顯影技術可以實現雙重圖形化的效果，有利於減少曝光-刻蝕工藝步驟，降低成本。
