基本介紹
- 中文名:超音波清洗純水設備
- 屬性:本質
- 取達:國家自來水標準的水為源水
- 套用:微電子行業醫藥行業
套用範圍概述,典型工藝流程,標準參考,設備特點,
套用範圍概述
微電子行業:電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管螢光屏生產、液晶顯示器的生產、電晶體生產、積體電路生產、電子新材料生產;
醫藥行業:醫藥無菌水生產口服液生產;
化學化工:超純化學試劑生產化工新材料生產;
其它:貴金屬冶煉、磁性材料生產、電子級無塵布生產、光學材料生產等;
典型工藝流程
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
標準參考
顯像管、液晶顯示器用純水水質(經驗數據)
積體電路用純水水質
國家電子級純水標準
設備特點
為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,儘可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。
系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。