臨界調製函式

一種用於光刻膠解析度估算的函式計算方法。

基本介紹

• 中文名：臨界調製函式
• 外文名：critical resist modulation transfer function

光刻膠譽您檔碑的臨界調付詢慨制函式定義為

光刻時，要在光項乘凳刻膠上成像，曝光系統全仔坑的調製函式必須大想重精於或者等於光刻膠的臨界調製函式。因此，已知曝光系統的調製函式與光刻膠的臨戒協界調製函式，就可以粗略預測曝光犁烏希紙能否成功。