脈衝雷射分子束外延真空腔

脈衝雷射分子束外延真空腔是一種用於數學領域的分析儀器，於2015年11月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：脈衝雷射分子束外延真空腔
• 產地：中國
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2015年11月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

極限真空＜1.0*10-6Pa，真空中加熱器溫度800度，配有RHEED。

主要功能

和雷射器配合構成脈衝雷射分子束外延裝置，可以生長高質量外延氧化物外延膜、多層膜和超晶格，RHEED可以對薄膜厚度進行監控。