緊湊型濺射系統

緊湊型濺射系統是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2010年1月7日啟用。

基本介紹

• 中文名：緊湊型濺射系統
• 產地：日本
• 學科領域：信息科學與系統科學、材料科學
• 啟用日期：2010年1月7日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

濺射室極限真空：7.3×10-5 Pa進樣室真空：10 Pa樣品直徑：最大單片4inch薄膜樣品均勻性誤差：正負5％以內ULVAC DC電源2台：MAX 150WULVAC RF電源2台：MAX 200W樣品台加熱溫度：MAX 500攝氏度反應氣體：Ar 、O2 、PN2靶材直徑：2inch。

主要功能

可實現相變材料物理沉積。