紫外準分子雷射剝蝕系統

紫外準分子雷射剝蝕系統是一種用於地球科學、環境科學技術及資源科學技術、考古學領域的雷射器，於2007年12月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：紫外準分子雷射剝蝕系統
• 產地：德國
• 學科領域：地球科學、環境科學技術及資源科學技術、考古學
• 啟用日期：2007年12月13日
• 所屬類別：雷射器 > 雷射器 > 雷射器

技術指標

雷射器為ArF193nm紫外準分子雷射器，單脈衝能量220mJ；最高重複頻率20Hz。經光學系統勻光和聚焦，能量密度可達50J/cm2，剝蝕坑直徑可設定為4、8、16、24、32、44、60、90和120µm。

主要功能

該儀器和多接收器等離子質譜儀、四極桿等離子質譜儀聯用，主要用於鋯石原位U-Pb定年以及礦物微區微量元素分析和Hf同位素同時測定；和四極桿等離子質譜儀聯用，主要用於固體微區微量元素原位分析和微區原位鋯石U-Pb定年。