紫外清洗機

紫外清洗機又名紫外臭氧清洗機，或者UV清洗機，小型的也有叫紫外臭氧清洗儀或者紫外臭氧清洗器，英文名稱為UV OZONE CLEANING SYSTEM。 光清洗技術的套用範圍十分廣泛，目前在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業現代化的發展，光清洗和光改質技術還將逐步套用於金屬、塑膠、橡膠等工業生產領域。

基本介紹

• 中文名：紫外清洗機
• 外文名：UV OZONE CLEANING SYSTEM
• 又名：紫外臭氧清洗機
• 套用領域：金屬、塑膠、橡膠

比如：在LCD、OLED生產中，在塗光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力； 大規模積體電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔淨度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對晶片表面不會造成損傷。在半導體生產中，矽晶片塗保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生。光學玻璃經過紫外光清洗後，鍍膜質量更好，等等套用。

工作原理：通過產生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收並分解。由於臭氧分子存在時間短並且同時也被254nm光分解，樣品台可以調節樣品到燈管的距離來最佳化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然後形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉變成氧分子。

除了上述所說的套用外, 清洗機常用於掃描探測顯微鏡的樣品套用，能用於清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標準和表面上常規的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助於部件和表面的化學改性，經過氧化和硬化處理的探針有利於在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利於提高側向解析度。