紫外光表面清洗技術在國際上是隨著光電子信息產業的發展而提出來的。
簡介,技術套用,工作原理,
簡介
七十年代中期美國軍事電子技術和器件實驗室套用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間裡紫外光表面清洗技術主要在軍事領域中進行研究性套用。直到九十年代初，日本和美國先後將UV光清洗機套用於民用光電子產品的工業生產過程，並開始向我國個別外資LCD企業在要求技術保密的情況下提供UV光清洗機。隨後，日本在發展紫外光表面清洗技術的同時，紫外光表面改質技術也得到了發展。在二十世紀末，日本等先進工業國家紫外光表面清洗和改質技術由信息產業逐步擴展到金屬、塑膠、橡膠等工業生產過程。二十世紀九十年代後期，我國的信息技術和產業以驚人的速度飛速發展，特別是平板顯示技術的高速發展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產品也開始進入市場。由此，對製備工藝過程表面質量要求越來越嚴格，紫外光表面清洗技術的優越性已經得到廣泛認可，紫外臭氧清洗機的需求量正在不斷增長。
UVOCS紫外臭氧清洗機
UVOCS紫外臭氧清洗機技術套用
光清洗技術的套用範圍十分廣泛，在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍，隨著我國工業現代化的發展，光清洗和光改質技術還將逐步套用於金屬、塑膠、橡膠等工業生產領域。
2、印製電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連線強度。特別是高精度印製電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除線上距之間很小的微粒，可以大大提高印製電路板的質量。
3、大規模積體電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔淨度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對晶片表面不會造成損傷。
4、在半導體生產中，矽晶片塗保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生。
5、在光碟的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光碟的質量。
6、磁頭固定面的粘合，磁頭塗敷，以及提高金屬絲的連線強度，光清洗後效果更好。
7、石英晶體振盪器生產中，除去晶體檢測後塗層上的墨跡，晶體在銀蒸發沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。
8、在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。
9、彩色濾光片生產中，光清洗後能徹底洗淨表面的有機污染物。
10、敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔淨而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高。
12、樹脂透鏡光照後，能加強與防反射板的貼上性。
工作原理
VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由於活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。
