基本介紹
簡介,儀器介紹,主要套用,技術特點,技術參數,
簡介
儀器介紹
納米壓痕儀主要用於測量納米尺度的硬度與彈性模量,可以用於研究或測試薄膜等納米材料的接觸剛度、蠕變、彈性功、塑性功、斷裂韌性、應力-應變曲線、疲勞、存儲模量及損耗模量等特性。可適用於有機或無機、軟質或硬質材料的檢測分析,包括PVD、CVD、PECVD薄膜,感光薄膜,彩繪釉漆,光學薄膜,微電子鍍膜,保護性薄膜,裝飾性薄膜等等。基體可以為軟質或硬質材料,包括金屬、合金、半導體、玻璃、礦物和有機材料等。
主要套用
半導體技術(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads);存儲材料(磁碟的保護層、磁碟基底上的磁性塗層、CD的保護層);光學組件(接觸鏡頭、光纖、光學刮擦保護層);金屬蒸鍍層;防磨損塗層(TiN, TiC, DLC, 切割工具);藥理學(藥片、植入材料、生物組織);工程學(油漆塗料、橡膠、觸控螢幕、MEMS)等行業。
技術特點
1、完全符合ISO14577、ASTME2546;
2、光學顯微鏡自動觀察;
3、獨特的熱漂移控制技術;
4、可硬度、剛度、彈性模量、斷裂剛度、失效點、應力-應變、蠕變性能等力學數據;
5、適時測量載荷大小;
6、採用獨立的載荷載入系統與高解析度的電容深度感測器;
7、快速的壓電陶瓷驅動的載荷反饋系統;
8、雙標準校正:熔融石英與藍寶石。
2、光學顯微鏡自動觀察;
3、獨特的熱漂移控制技術;
4、可硬度、剛度、彈性模量、斷裂剛度、失效點、應力-應變、蠕變性能等力學數據;
5、適時測量載荷大小;
6、採用獨立的載荷載入系統與高解析度的電容深度感測器;
7、快速的壓電陶瓷驅動的載荷反饋系統;
8、雙標準校正:熔融石英與藍寶石。
技術參數
最大載入載荷:400 mN;
載荷解析度:30 nN;
可實現的最小載荷:1.5 µN;
位移解析度:0.003 nm;
可實現的最小位移:0.04 nm;
可實現的最大位移:250 µm;
熱漂移:<0.05 nm/s(室溫條件下);
載荷解析度:30 nN;
可實現的最小載荷:1.5 µN;
位移解析度:0.003 nm;
可實現的最小位移:0.04 nm;
可實現的最大位移:250 µm;
熱漂移:<0.05 nm/s(室溫條件下);
DMA模式:20 Hz。