納米光譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2008年12月18日啟用。
基本介紹
- 中文名：納米光譜儀
- 產地：俄羅斯聯邦
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2008年12月18日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
200nm三維空間解析度(共焦雷射顯微鏡與光譜儀) 80nm二維空間解析度(TERS掃描近場顯微鏡與光譜儀) 50nm單點光譜測量解析度(TERS) AFM/STM形貌測量解析度0.01nm 共聚焦模式下自動共聚焦精度+/-5nm X、Y、Z測量範圍：100×100×12？m (+/-10%)；X、Y非線性：0.1% 樣品定位範圍：5×5 mm，定位精度：5？？m 樣品溫度控制：室溫~150oC，溫度穩定度：0.05 oC 最大樣品尺寸：？ 40 mm, 15 mm高高靈敏度：可在小於微W。
主要功能
本裝置以雷射共聚焦光學顯微技術與掃描探針顯微技術為基礎，集成了分光光譜儀的功能，從而能夠獲得解析度高達200nm的三維拉曼、螢光、光致發光顯微光譜及雷射共聚焦成像測量，及近場光學顯微成像。由於集成了掃描探針技術，一方面使納米尺度結構形態分析可與化學、物理性質分析並行進行，另一方面，利用掃描探針，通過表面等離激元增強效應，可使二維的拉曼和螢光成像的解析度提高到80納米，構成一種基於表面增強拉曼散射的近場光學顯微鏡，而定點拉曼或光致發光光譜測量的解析度達到50納米，並使測量靈敏度獲得幾個數量級的提高，實現單分。
