紅外目標探測跟蹤系統

紅外目標探測跟蹤系統是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2010年06月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：紅外目標探測跟蹤系統
• 產地：中國
• 學科領域：信息科學與系統科學
• 啟用日期：2010年06月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

（1）工作波段：中波３～５um （2）探測器類型：製冷MCT FPA （3）陣元大小：320×256 （4）壞元數量：

主要功能

對紅外小目標的跟蹤處理。