精密刻蝕噴鍍儀是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2006年3月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：精密刻蝕噴鍍儀
- 產地：美國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2006年3月25日
技術指標,主要功能,
技術指標
離子束能量：1 ~ 10 keV； 搖擺角：0 ~ 90 o； 搖擺速度：0 ~ 40 o/s； 旋轉速度：10 ~ 60 rpm； 真空系統：無油機械泵+分子泵系統。 最大樣品直徑：32 mm。
主要功能
具有氬離子刻蝕、鍍膜及膜厚測量、樣品表面清洗等多種功能；渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔淨環境。採用離子濺鍍方式可獲得顆粒細小非晶態膜，鍍膜精度為納米量級，且具有鍍膜速度快的特點，主要用於SEM、TEM、EPMA、EBSD樣品的製備和前置處理。鍍膜時對樣品的加熱可以忽略不計，對樣品不造成損傷。
