基本介紹
- 中文名:第三代半導體材料
- 所屬學科:半導體
二十一世紀以來,以氮化鎵(GaN)和碳化矽(SiC)、氧化鋅(ZnO)、金剛石為四大代表的第三代半導體材料開始初露頭角。1材料特點第三代半導體材料具有更寬的禁頻寬度、更高的導熱率、更高的抗輻射能力、更大的電子飽和漂移速率...
寬禁帶半導體材料是被稱為第三代半導體材料。半導體材料 隨著微波器件及光電子器件的發展,Ⅲ-Ⅴ族展,但電子學的發展對器件提出了愈來愈高的要求,特別是需要大功率、高頻、高速、高溫以及在惡劣環境中工作的器件。例如,高性能軍用飛機及超音速琶機發動機的監控系統要求在300℃下長期工作,而一般的器件只能在100℃下...
GaN即氮化鎵,屬第三代半導體材料,六角纖鋅礦結構。GaN 具有禁頻寬度大、熱導率高、耐高溫、抗輻射、耐酸鹼、高強度和高硬度等特性,是現在世界上人們最感興趣的半導體材料之一。gan 基材料在高亮度藍、綠、紫和白光二極體,藍、紫色雷射器以及抗輻射、高溫大功率微波器件等領域有著廣泛的套用潛力和良好的市場前景。
深圳市第三代半導體材料產業園是2024年2月27日由北京天科合達半導體股份有限公司、深圳市重大產業投資集團等各方共同投資建立的產業園。產業園簡介 深圳市第三代半導體材料產業園的總投資32.7億元,重點布局6英寸碳化矽單晶襯底和外延生產線,預計今年襯底和外延產能達25萬片,將進一步補強深圳第三代半導體“虛擬全產業...
《第三代半導體材料SiC納米結構物性的多尺度計算模擬》是依託電子科技大學,由王治國擔任醒目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 寬禁帶半導體材料是當前科學研究的熱點之一,本項目擬採用多尺度理論,在原子尺度上研究以寬頻隙SiC為代表的第三代半導體材料納米結構的熱學、力學及光電等基本物理性質。首次在原子尺度上研究...
理論上,這將提供接近完全的自旋極化(在鐵等材料中僅能提供至多50%的極化),這是自旋電子學的一個重要套用,例如自旋電晶體(spin transistors)。發展歷史 磁性半導體發展歷史可分為三段。第一代磁性半導體 關於磁性半導體的研究可以追溯到20世紀60年代。我們首先來簡單回顧一下關於濃縮磁性半導體(Concentrated Magnetic...
《第三代半導體材料發展態勢分析》是2020年電子工業出版社出版的圖書,作者是第三代半導體材料發展態勢分析項目組。內容簡介 按照國家科技圖書文獻中心為國家“十三五”規劃中的國家重點研發計畫開展科技信息支撐和保障服務的戰略部署,結合“戰略性先進電子材料”重點專項及中國科學院文獻情報中心情報分析與服務特色和優勢,...
美、日、歐寬頻隙半導體技術發展 美國、日本和歐盟等國在SiC、GaN和金剛石等寬頻隙半導體器件與電路研究中已取得多項里程碑性的進展,這些飛速發展已經證實寬頻隙半導體是當之無愧的新一代半導體材料,並將替代Si和GaAs套用於相控陣雷達、高保密通信及其他重要設施等諸多國防和航空領域。發展寬頻隙半導體技術上的重大...
《陝西省培育千億級第三代半導體產業創新集群行動計畫》是陝西省印發的行動計畫,按照計畫,陝西將重點開展第三代半導體材料工藝技術與核心產品攻關,打通晶體材料高效生長、器件設計製造等產業發展關鍵節點,構建第三代半導體產業鏈、創新鏈、服務鏈協同發展新模式,打造國內領先的千億級第三代半導體產業創新集群。發展歷...
近十年來,以Ⅲ族氮化物為代表的寬禁帶半導體材料與器件發展迅猛,對信息科學技術的發展和套用起了巨大的推動作用,被稱為繼以Si、GaAs為代表的第一、第二代半導體後的第三代半導體。由InN、GaN、AlN及其合金組成的Ⅲ族氮化物(又稱GaN基)半導體是目前最重要一類寬禁帶半導體,其主要套用領域包括:(1)當前在國內外...
國家高技術研究發展計畫(863計畫)新材料技術領域2014年度備選項目徵集指南方向與內容 編輯 語音 1. 新型電子材料與器件 1.1 第三代半導體材料及套用 1.1.1 高質量第三代半導體材料關鍵技術 開展第三代半導體材料大尺寸、低成本、高質量襯底製備和外延技術研究,突破相關核心關鍵...
5G 通信、電力電子、環境與健康等領域的套用,開展第三代半導體高質量材料製備技術、器件外延技術、晶片工藝技術、套用模組設計與集成技術、相關裝備技術等關鍵共性技術研發和成果轉移轉化,建立覆蓋第三代半導體全產業鏈條、全體系的創新平台。發展歷史 2021年,國家第三代半導體技術創新中心(蘇州)掛牌成立。
2023年5月19日,保定第三代半導體產業技術研究院(以下簡稱“研究院”)正式成立。簡介 保定市第三代半導體產業技術研究院項目於2022年8月簽約,當時訊息顯示,項目立足國際前沿的第三代半導體材料關鍵技術、產業化技術,搭建碳化矽單晶襯底及外延生長技術等研發試驗和中試平台,形成可推廣至大規模產業化的技術成果。
東營市第三代半導體材料製備關鍵技術重點實驗室 東營市第三代半導體材料製備關鍵技術重點實驗室是山東國宏中能科技發展有限公司的科研平台。主管部門 山東國宏中能科技發展有限公司 立項時間 2021年
第二代半導體材料主要用於製作高速、高頻、大功率以及發光電子器件,是製作高性能微波、毫米波器件及發光器件的優良材料。因信息高速公路和網際網路的興起,還被廣泛套用於衛星通訊、移動通訊、光通信和GPS導航等領域。第三代半導體材料 主要以碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表...
材料簡介 GaN材料的研究與套用是目前全球半導體研究的前沿和熱點,是研製微電子器件、光電子器件的新型半導體材料,並與SiC、金剛石等半導體材料一起,被譽為是繼第一代Ge、Si半導體材料、第二代GaAs、InP化合物半導體材料之後的第三代半導體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導率、化學穩定性好(幾乎...
GaN作為第三代半導體材料的典型代表,具有禁頻寬度大、擊穿場強高、飽和電子遷移速率高、熱導率大、介電常數小、抗輻射能力強,以及良好的化學穩定性,適合製作抗輻射、高頻、大功率和高密度集成的電子器件,而且可以製作藍、綠和紫外發光器件和光探測器件。目前GaN憑藉其出色的物理、化學以及光電性能成為第三代半導體...
c-BN作為一種寬禁帶(帶隙6.4 eV)半導體材料,具有高熱導率、高電阻率、高遷移率、低介電常數、高擊穿電場、能實現雙型摻雜且具有良好的穩定性,它與金剛石、SiC和GaN一起被稱為繼Si、Ge及GaAs之後的第三代半導體材料,它們的共同特點是帶隙寬,適用於製作在極端條件下使用的電子器件。與SiC和GaN相比,c-...
多晶矽是生產單晶矽的直接原料,是當代人工智慧、自動控制、信息處理、光電轉換等半導體器件的電子信息基礎材料。生產技術 多晶矽的生產技術主要為改良西門子法和矽烷法。西門子法通過氣相沉積的方式生產柱狀多晶矽,為了提高原料利用率和環境友好,在前者的基礎上採用了閉環式生產工藝即改良西門子法。該工藝將工業矽粉與HCl...
由於GaN晶體具有優良的物理和化學性質,因而被認為是一種非常具有套用前景的第三代寬頻隙半導體材料。由於GaN晶體薄膜外延生長技術的改進與提高,使其在半導體器件套用領域得以迅速發展,尤其在GaN基光電器件套用研究領域。由此,GaN晶體的發光特性、帶隙能級的精細結構、能級形成的內部機制以及能級間的躍遷行為變得十分具有...
項目的完成對促進我國電子信息製造業自主研發新的工藝和技術,特別是對促進及廣東省高性能IC和LED半導體照明領域的技術進步與升級具有明確的意義。結題摘要 單晶SiC作為第三代半導體材料,具有大的禁頻寬度、高飽和電子漂移速度、高擊穿電場強度、高熱導率、低介電常數和強抗輻射能力等優良的特性,在高性能IC晶片和LED...
砷化鎵、氮化鎵被譽為第三代半導體材料,被用來大量製造積體電路和光電設備(雷射二極體、發光二極體、光電探測器和太陽能電池。純鎵及低熔合金可作核反應的熱交換介質,高溫溫度計的填充料,有機反應中作二酯化的催化劑。鎵-68會發射正電子,可以用於正電子斷層成像。鎵銦合金可作為汞的替代品。醫學套用 鎵金屬及其...