積體電路先導工藝研發中心

中心簡介

積體電路先導工藝研發中心圍繞積體電路先導工藝技術研究，致力於CMOS前沿工藝技術、MEMS器件與集成技術研究、新原理的微細加工技術和設備研發，擁有一條完整的CMOS/MEMS工藝線和雄厚的工藝研發力量，是我國積體電路前沿研究領域的中堅力量，在CMOS器件成套工藝，MEMS製造技術和器件套用等方面做出了多項代表國家積體電路工藝研究水平的成果。

研發隊伍

研發中心現有一支結構合理，老、中、青三代相結合、朝氣蓬勃的科研團隊。實驗室有固定在編人員80餘人，包括研究員15人，副研究員及高級工程師10人，流動人員及在學碩士、博士研究生40餘人，現任實驗室主任為陳大鵬研究員。

研發設備

研發中心擁有一個淨化面積達300平米的4英寸Mini CMOS工藝研發實驗室和一個淨化面積2200平米的8英寸CMOS先導工藝研發平台，具備國內一流的CMOS/MEMS器件加工及工藝整合環境，是一個功能完善的從事納米尺度新型CMOS/MEMS器件與工藝研究的開放研發基地。

研究方向

研發中心現有兩個主要研究方向，即CMOS先導工藝技術研究，MEMS器件與集成技術研究。

研究目標

該中心的目標是發展成為一個既能開展亞50納米以下節點的CMOS工藝模組研究，也能滿足MEMS工藝研究的多目標科研平台，並在此基礎上，成為一個基於專業化技術協作，並能提供成熟的IC工藝模組和對外服務功能的MEMS製作工藝及IC集成技術平台，促使CMOS/MEMS技術走向市場化和實用化。