磁控共濺射系統

磁控共濺射系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年10月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控共濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年10月13日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備 > 化學反應工藝實驗設備

技術指標

主要由主濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱台、進樣室、樣品庫、退火爐、反濺靶、磁力送樣機構、工作氣路、抽氣系統、安裝機台、真空測量及電控系統等部分組成。

主要功能

用於納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的製備。