碳氟性電漿的放電機理和刻蝕過程的研究

《碳氟性電漿的放電機理和刻蝕過程的研究》是依託大連理工大學,由趙書霞擔任醒目負責人的青年科學基金項目。

基本介紹

• 中文名：碳氟性電漿的放電機理和刻蝕過程的研究
• 依託單位：大連理工大學
• 項目類別：青年科學基金項目
• 項目負責人：趙書霞

項目摘要

為了滿足國內和國際微電子企業對刻蝕工藝性能最佳化的苛刻要求，需要從微觀角度詮釋電漿內部放電細節以及其與材料表面的相互作用。本項目擬採用二維自洽流體力學和流體與粒子混合模型為主，朗繆爾和Hairpin探針實驗診斷為輔的方法，分別對不同放電條件、反應腔室和碳氟氣體種類下的電漿放電機理以及其活性粒子與器壁和基片台表面的相互作用，主要研究（一）電漿內部細節，如電子屬性、電離和離解特徵、化學活性粒子組分、負離子、電負性、空間分布特徵；（二）器壁鈍化薄膜沉積機理，如成膜先驅物種的確定、沉積薄膜的成分以及其與電漿的二次相互作用；（三）碳氟電漿針對基片材料矽、二氧化矽和氮化矽材料的刻蝕原理，包括鈍化薄膜對刻蝕過程的調控作用、不同基片材料之間的刻蝕選擇性以及刻蝕過程對電漿的反饋。

結題摘要

本項目採用模擬與實驗相結合的方法研究了碳氟電漿源的放電特性、化學組分、負離子動力學、模式轉化機理、以及背景氣體輸運機制等，為認清楚和最佳化器壁成膜和刻蝕工藝提供參考依據。