碳化鈦膜

碳化鈦膜是指鈦碳化合物的薄膜一種重要的耐磨塗層。可以用化學氣相沉積（CVD)、離子鍍和濺射法製備。

基本介紹

• 中文名：碳化鈦膜
• 外文名：titanium carbide film
• 學科：材料工程
• 領域：工程技術

簡介

碳化鈦膜是指鈦碳化合物的薄膜一種重要的耐磨塗層。

製備方法

可以用化學氣相沉積（CVD)、離子鍍和濺射法製備。

性能

晶粒度一般在10-100nm範圍，常有明顯的(111)或(110)擇優取向和較高的缺陷密度。硬度為HV27-30GPa(塊體TiC為HV28GPa)。60年代宋碳化鈦曾作為硬質合金刀具耐磨鍍層進入市場，但不久即被綜合性能較好的CVDTIN取代。

套用前景

碳化鈦膜是最早獲得成功套用的硬膜之一，一般都是用化學氣相沉積(CVD)法製備的。由於CVD的沉積溫度高(1000℃)，所以套用範圍受到極大的限制。電漿化學氣相沉積硬膜技術(PCVD)是在CVD的基礎上，加上電漿的激活作用，使沉積溫度降到了600℃以下，前期的研究已證明，在用PCVD法製備的TiCN，中TiC膜有者最高的硬度和最緻密的組織，有著廣闊的套用前景。