碲化鋅磁控濺射聯續鍍膜系統

碲化鋅磁控濺射聯續鍍膜系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器，於2017年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：碲化鋅磁控濺射聯續鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：工程與技術科學基礎學科
• 啟用日期：2017年1月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

極限真空：2E-4Pa；大氣抽到6E-3Pa, 小於35分鐘。

主要功能

在30cm*40cm*4mm的基板上濺射沉積兩種類型的薄膜。