真空PVD系統

真空PVD系統是一種用於物理學、化學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2018年11月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空PVD系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2018年11月13日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

直徑 350mm柱形腔， 柱形腔， 材質為 SS316不銹 鋼，符合超高真空要求的不同尺寸法蘭口； 腔體充分烘烤後，本底真空好於 5x10-9 mbar（採用 CF150快門設 計，如採用全金屬密封則真空可好於 5x10-10 mbar）。

主要功能

金屬、金屬氧化物電子束蒸發製備薄膜樣品。