《真空紫外及極紫外區高效率離子準分子雷射介質研究》是依託華南師範大學，由邢達擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：真空紫外及極紫外區高效率離子準分子雷射介質研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：邢達
- 依託單位：華南師範大學
- 批准號：69678030
- 申請代碼：F0506
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：1997-01-01 至 1999-12-31
- 支持經費：9.6（萬元）
項目摘要
此基金項目對離子型準分子雷射介質進行了深入的研究，目前已經成功地觀測到了多種 離子準分了的發射帶，同時也成功地實現了寬頻可調諧金屬二聚物準分子的自發輻射放大和增益係數測量、以及高儲能金屬準分子鋅、鎘寬頻發射。在短時間內取得了較重大進展，圓滿地完成了預期的研究計畫。此項研究解決了離子型準分子作為雷射介質可行性的一些基本問題，為很多尖端技術工業以及雷射生物學，遺傳工程等領域急需的短波長雷射器件的開發提供了基礎數據，同時也為實用型電激勵器件的研究奠定了基礎。在國內外權威學術刊物上發表論文十七篇，重要國際會議上特邀論文二篇。此課題的研究目前仍然處於國際先進水平並得到國際同行的廣泛承認。
