熱絲陰極離子鍍技術和空心陰極離子鍍技術一樣，屬於熱電子弧光放電類型離子鍍技術。在真空室頂上安裝熱絲弧槍，熱絲陰極槍中安裝鈕絲，接弧電源負極。真空室底部安裝水冷坩堝接電源正極，內裝金屬錠。坩堝周圍安裝水冷輔助陽極。工件接偏壓電源。氬氣由熱絲陰極槍引人，反應氣由真空室引人。真空室外圍安裝上下兩個大的電磁線圈。
基本介紹
- 中文名：熱絲陰極離子鍍技術
- 所屬學科：化學
（1）電子轟擊加熱。工件經清洗入爐後抽真空。當真空度達到6X10Pa後，進行電子發擊加熱。從熱絲弧槍室通人氨氣，真空度調至3X10Pa，鈕絲預加熱電流150A，接弧電源的負極。領電源的正極和工件轉架連線。
開啟工件轉動機構。外圍電磁線圈電流20A。開啟弧電源後熱絲陰極槍產生的熱電子就射向工件，工件被電子流加熱。加熱30min~50min後關閉弧電源。
（2）氬離子轟擊淨化。加熱完畢，將真空度調至2x10Pa 轉換弧電源的正極與水冷鋪助陽極連線。將弧電流調至100A，組絲加熱電流保持150A。偏壓電源的負極與工件轉架連線，電壓120V。外國電磁線圈的電流10A.這時大量的熱電子流射向水冷輔助陽極，在熱絲陰極槍和輔助陽極之間形成很亮的弧柱，沉積室內產生了大量的電漿。接通偏壓電源後，氬離子在負偏壓電場的作用下，對工件進行表擊清洗。一般轟擊清洗10~20min後關閉弧電源轉人鍍膜階段。
（3）沉積氮化鈦超硬除層。轟擊清洗完畢，將真空度調至1.8X10Pa,轉換弧電源正極接水冷坩堝，緩慢增加外圍電磁線圈電流至30A。工件偏壓100V,鉬絲加熱電流保持150A緩慢增加弧電流至200A。同時通人氮氣，真空度調至2.3X10Pa,弧電流增至200A，沉積氮化鈦硬質塗層。一般沉積90min。最後關閉弧電源、鉭絲加熱電源、偏壓電源、工件轉架、氬氣、氮氣。
