清潔表面是指在特殊環境中經過特殊處理後獲得的表面,是不存在吸附、催化反應或雜質擴散處理等物理、化學效應的表面,例如,經過離子轟擊、高溫脫附、超高真空解離、蒸發薄膜、場效應蒸發、化學反應、分子束外延等特殊處理後,保持在超高真空下,外來沾污少到不能用一般表面分析方法探測的表面。
基本介紹
- 中文名:清潔表面
- 定義:不受任何污染的化學純表面
- 產生:經離子轟擊後退火處理的表面
- 特點:晶體內部的排列發生明顯的變化
清潔表面是指在特殊環境中經過特殊處理後獲得的表面,是不存在吸附、催化反應或雜質擴散處理等物理、化學效應的表面,例如,經過離子轟擊、高溫脫附、超高真空解離、蒸發薄膜、場效應蒸發、化學反應、分子束外延等特殊處理後,保持在超高真空下,外來沾污少到不能用一般表面分析方法探測的表面。
清潔表面是指在特殊環境中經過特殊處理後獲得的表面,是不存在吸附、催化反應或雜質擴散處理等物理、化學效應的表面,例如,經過離子轟擊、高溫脫附、超高真空解離、蒸發...
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