浸沒透鏡技術

積體電路製造工藝光刻模組中，在光刻機鏡頭和矽片之間增加高折射率液體介質達到提高解析度的光刻技術。

基本介紹

• 中文名：浸沒透鏡技術
• 外文名：Immersion Technology
• 所屬學科：微電子、半導體

定義

為了提高光刻解析度，實現更小尺寸的圖形轉移，在光刻機鏡頭和矽片之間增加高折射率液體介質達到提高解析度的光刻技術。

原理

提高光刻機解析度有三種途徑：1.縮短曝光光源波長 2.擴大曝光鏡頭的數值孔徑 3.採用波前工程改善工藝因子K1。為進一步延伸193nm光源的光刻技術的使用壽命，根據高倍油浸顯微鏡提高解析度的原理，設法在曝光鏡頭的最後一個晶片和矽片之間增加高折射率的液體（比如水）作為介質，以達到提高解析度的目的。

技術特點

提高該介質的折射率可以加大光線的折射程度，等效的加大鏡頭口徑尺寸與數值孔徑，同時可以顯著提高焦深和曝光工藝的寬容度。

套用

採用193nm光源的浸沒光刻（193i）技術已經成為65nm、45nm、28nm節點光刻的主流技術。