氧化鋅鋁磁控濺射靶材

《氧化鋅鋁磁控濺射靶材》是2018年11月01日實施的一項行業標準。

基本介紹

• 中文名：氧化鋅鋁磁控濺射靶材
• 外文名：Alumium doped zinc oxide magnetron sputtering targets
• 標準編號：T/ZZB 0639—2018
• 實施日期：2018年11月01日
• 發布日期：2018年10月19日

起草人

本標準主要起草人：楊曄、周山山、何偉、蘭品軍、朱永明、李翔、宋偉傑、李勇、馬通達、楊立紅、宋雲娜、張鳳戈、夏黎海。

起草單位

本標準由寧波市標準化研究院牽頭組織制定。 本標準主要起草單位：寧波森利電子材料有限公司。 本標準參與起草單位：寧波市標準化研究院、中國科學院寧波材料技術與工程研究所、國標（北京）認證有限公司、漢能裝備科技集團有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特種材料（太倉）有限公司（排名不分先後）。

主要內容

本標準規定了氧化鋅鋁磁控濺射靶材的術語和定義、基本要求、技術要求、試驗方法、檢驗規則、標誌、包裝、運輸和貯存、質量承諾等。

本標準適用於粉末冶金生產的用於磁控濺射沉積節能Low-E玻璃的功能介質層以及薄膜太陽能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鋁磁控濺射靶材。