極紫外干涉儀

極紫外干涉儀是光源為極紫外光段波長的干涉儀。

基本介紹

• 中文名：極紫外干涉儀
• 外文名：EUV Interferometer

極紫外干涉儀的基本原理是：兩個極紫外光束對稱的照在有周期圖形的掩模版上，衍射光相互干涉，在晶圓表面形成周期性條紋，對光刻膠曝光。

這樣形成的圖像不存在聚焦的問題，晶圓可以放置在距離掩模0.3-10mm的區域，選擇掩模版上不同周期的光柵，可以在晶圓表面形成不同周期的圖形。干涉儀成像的對比度比同樣解析度下的光刻機成像對比度高，極紫外干涉儀可以提供7nm的曝光圖形，遠小於極紫外光刻機的解析度。