基本介紹
- 書名：材料的雷射表面改性技術及套用
- 作者：楊玉玲，董丹陽
- ISBN：9787122156655
- 頁數：185
- 定價：48.00元
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2013-2
內容簡介,編輯推薦,目錄,
內容簡介
《材料的雷射表面改性技術及套用》在對雷射技術的相關理論和雷射表面改性技術進行綜述的基礎上，主要對矽和鐵表面的雷射氣體氮化技術、雷射氮化改善取向矽鋼磁疇分布及降低鐵損、矽鋼表面雷射輔助滲矽技術、工業鈦合金及醫用鈦合金表面的雷射熔覆技術等進行了闡述。
《材料的雷射表面改性技術及套用》內容豐富，素材新穎，層次分明。可作為從事雷射技術、材料表面改性和雷射加工等相關領域的工程技術人員、研究人員及高等院校相關專業的本科生和研究生的參考書。
編輯推薦
《材料的雷射表面改性技術及套用》在對雷射技術的相關理論和雷射表面改性技術進行綜述的基礎上，主要對矽和鐵表面的雷射氣體氮化技術、雷射氮化改善取向矽鋼磁疇分布及降低鐵損、矽鋼表面雷射輔助滲矽技術、工業鈦合金及醫用鈦合金表面的雷射熔覆技術等進行了闡述。
目錄
第1章 雷射加工概述
1.1 雷射產生的物理基礎
1.1.1 雷射的發展簡史
1.1.2 產生雷射的典型能級結構
1.1.3 原子能級及粒子數分布
1.1.4 原子能級躍遷
1.1.5 雷射產生機理
1.1.6 雷射器基本結構
1.2 雷射的特性
1.2.1 單色性好
1.2.2 高方向性
1.2.3 高相干性
1.2.4 高亮度
1.3 雷射與材料的相互作用
1.3.1 簡介
1.3.2 雷射的吸收過程
1.3.3 雷射的熱效應
1.3.4 電漿產生過程
1.3.5 雷射燒蝕過程
第2章 雷射表面改性技術簡介
2.1 概述
2.2 雷射表面處理技術分類及特點
2.2.1 雷射相變硬化
2.2.2 雷射衝擊硬化
2.2.3 雷射熔覆
2.2.4 雷射表面合金化
2.2.5 其他雷射表面改性技術簡介
2.3 雷射表面改性設備
2.3.1 雷射器系統
2.3.2 光路及導光系統
2.3.3 雷射加工數控系統
2.4 雷射表面改性存在的問題及展望
第3章 雷射氣體氮化（LGN）技術與套用
3.1 矽表面雷射氣體氮化工藝及特性
3.1.1 實驗材料及設備
3.1.2 雷射工藝參數的確定及工藝
3.1.3 雷射氮化處理後樣品的表面物相組成
3.1.4 雷射與半導體材料相互作用與氮化成膜機理
3.2 鐵表面雷射氣體氮化
3.2.1 雷射氣體氮化工藝參數的確定
3.2.2 雷射氮化樣品表面物相分析
3.2.3 鐵氮化合物熱穩定性及相結構轉變
第4章 高磁感取向矽鋼微區雷射氣體氮化
4.1 取向矽鋼簡介
4.1.1 高磁感取向矽鋼的發展趨勢
4.1.2 改善磁疇分布及提高取向矽鋼鐵損方法簡介
4.2 改進型Fe304磁流體的研製
4.2.1 Fe304磁流體的配置
4.2.2 Fe304磁流體性能影響因素
4.3 取向矽鋼片雷射掃描間距的理論計算.
4.3.1 實驗材料及計算方法
4.3.2 平均晶粒尺度的計算
4.4 最佳晶粒尺度、氮化掃描間距及特性曲線的確立
4.4.1 計算原理及方法簡介
4.4.2 最佳晶粒尺度計算
4.4.3 雷射氣體氮化掃描間距的確立
4.4.4 取向矽鋼特性曲線的確立
4.5 雷射氣體氮化對取向矽鋼性能的影響
4.5.1 雷射氮化機制及工藝確定
4.5.2 微區雷射氣體氮化成分標定
4.5.3 微區雷射氣體氮化對取向矽鋼磁疇結構分布的影響
4.5.4 微區雷射氣體氮化對取向矽鋼時效性能的改善.
4.5.5 雷射刻痕和雷射氣體氮化對降低矽鋼片鐵損的影響-
第5章 矽鋼雷射輔助滲矽技術
5.1 矽鋼及高矽鋼製備工藝簡介
5.1.1 矽鋼的分類和發展
5.1.2 鐵矽合金特性
5.1.3 高矽鋼特性
5.1.4 高矽鋼製備工藝
5.1.5 雷射熔覆工藝
5.2 單道雷射熔覆塗層的製備技術
5.2.1 單道雷射熔覆塗層製備
5.2.2 單道雷射熔覆工藝探索與最佳化
5.2.3 影響雷射熔覆塗層質量的因素
5.2.4 熔覆塗層組織與凝固行為分析
5.2.5 熔覆塗層矽含量測定及硬度分布
5.3 多道搭接雷射熔覆塗層的製備技術
5.3.1 多道搭接雷射熔覆塗層製備
5.3.2 影響雷射熔覆塗層質量的因素
5.3.3 雷射熔覆塗層中存在的缺陷
5.3.4 熔覆塗層顯微組織分析
5.3.5 熔覆塗層凝固行為分析
5.3.6 熔覆塗層微結構分析
5.3.7 熔覆塗層矽含量測定及硬度分布
5.4 退火處理雷射熔覆高矽塗層磁性能研究
5.4.1 鐵磁性物質磁飽和及磁滯現象
5.4.2 熔覆樣品擴散退火與表面相組成
5.4.3 熔覆退火樣品硬度與矽含量分布
5.4.4 熔覆退火樣品的室溫磁性能
第6章 工業鈦合金雷射表面改性技術
6.1 工業鈦合金簡介
6.2 雷射氮化改性技術研究
6.2.1 簡介
6.2.2 實驗材料及設備
6.2.3 雷射氮化工藝確定
6.2.4 氮化處理後表面物相及顯微硬度分布
6.2.5 雷射氮化樣品顯微硬度分布
6.2.6 氮化機制及合金成分對氮化影響
6.3 雷射熔覆製備耐磨塗層技術
6.3.1 雷射熔覆技術簡介
6.3.2 鈦合金表面雷射熔覆技術研究進展
6.3.3 雷射熔覆TiCN/Ti陶瓷塗層工藝
6.3.4 雷射熔覆參數確定及熔覆層物相、組織結構
6.3.5 熔覆層力學性能
6.4 雷射誘導原位自生耐磨塗層技術
6.4.1 實驗材料及設備方法
6.4.2 原位自生熱力學判據及工藝確定：
6.4.3 原位自生塗層的物相標定、顯微結構及力學性能
第7章 醫用鈦合金表面雷射熔覆改性
7.1 醫用鈦合金表面改性簡介
7.2 雷射熔覆HA/Si（）2生物塗層
7.2.1 Si-HA塗層簡介
7.2.2 實驗材料及熔覆工藝確定
7.2.3 熔覆層表面形貌及物相標定
7.2.4 HA/Si（）2生物塗層的潤濕性
7.2.5 HA/Si（）2生物塗層的體外活性
7.3 雷射熔覆合成’FiCN/Ti3Si（：2複合生物塗層技術
7.3.1 原理及方法簡介
7.3.2 實驗過程及方法
7.3.3 掃描速度對熔覆層物相、組織結構及硬度影響
7.3.4 離焦量對熔覆層物相、顯微結構及硬度影響
7.3.5 熔覆層顯微結構及微區成分分析
7.4 TICNN/SiO 2生物塗層潤濕性及體外活性
7.4.1 引言
7.4.2 實驗設備
7.4.3 實驗過程及方法
7.4.4 潤濕性結果
7.4.5 SBF溶液浸泡後表面物相分析
7.4.6 SBF浸泡中離子沉積速率
7.4.7 SBF浸泡後沉積層表面形貌及微區成分分析
參考文獻
1.1 雷射產生的物理基礎
1.1.1 雷射的發展簡史
1.1.2 產生雷射的典型能級結構
1.1.3 原子能級及粒子數分布
1.1.4 原子能級躍遷
1.1.5 雷射產生機理
1.1.6 雷射器基本結構
1.2 雷射的特性
1.2.1 單色性好
1.2.2 高方向性
1.2.3 高相干性
1.2.4 高亮度
1.3 雷射與材料的相互作用
1.3.1 簡介
1.3.2 雷射的吸收過程
1.3.3 雷射的熱效應
1.3.4 電漿產生過程
1.3.5 雷射燒蝕過程
第2章 雷射表面改性技術簡介
2.1 概述
2.2 雷射表面處理技術分類及特點
2.2.1 雷射相變硬化
2.2.2 雷射衝擊硬化
2.2.3 雷射熔覆
2.2.4 雷射表面合金化
2.2.5 其他雷射表面改性技術簡介
2.3 雷射表面改性設備
2.3.1 雷射器系統
2.3.2 光路及導光系統
2.3.3 雷射加工數控系統
2.4 雷射表面改性存在的問題及展望
第3章 雷射氣體氮化（LGN）技術與套用
3.1 矽表面雷射氣體氮化工藝及特性
3.1.1 實驗材料及設備
3.1.2 雷射工藝參數的確定及工藝
3.1.3 雷射氮化處理後樣品的表面物相組成
3.1.4 雷射與半導體材料相互作用與氮化成膜機理
3.2 鐵表面雷射氣體氮化
3.2.1 雷射氣體氮化工藝參數的確定
3.2.2 雷射氮化樣品表面物相分析
3.2.3 鐵氮化合物熱穩定性及相結構轉變
第4章 高磁感取向矽鋼微區雷射氣體氮化
4.1 取向矽鋼簡介
4.1.1 高磁感取向矽鋼的發展趨勢
4.1.2 改善磁疇分布及提高取向矽鋼鐵損方法簡介
4.2 改進型Fe304磁流體的研製
4.2.1 Fe304磁流體的配置
4.2.2 Fe304磁流體性能影響因素
4.3 取向矽鋼片雷射掃描間距的理論計算.
4.3.1 實驗材料及計算方法
4.3.2 平均晶粒尺度的計算
4.4 最佳晶粒尺度、氮化掃描間距及特性曲線的確立
4.4.1 計算原理及方法簡介
4.4.2 最佳晶粒尺度計算
4.4.3 雷射氣體氮化掃描間距的確立
4.4.4 取向矽鋼特性曲線的確立
4.5 雷射氣體氮化對取向矽鋼性能的影響
4.5.1 雷射氮化機制及工藝確定
4.5.2 微區雷射氣體氮化成分標定
4.5.3 微區雷射氣體氮化對取向矽鋼磁疇結構分布的影響
4.5.4 微區雷射氣體氮化對取向矽鋼時效性能的改善.
4.5.5 雷射刻痕和雷射氣體氮化對降低矽鋼片鐵損的影響-
第5章 矽鋼雷射輔助滲矽技術
5.1 矽鋼及高矽鋼製備工藝簡介
5.1.1 矽鋼的分類和發展
5.1.2 鐵矽合金特性
5.1.3 高矽鋼特性
5.1.4 高矽鋼製備工藝
5.1.5 雷射熔覆工藝
5.2 單道雷射熔覆塗層的製備技術
5.2.1 單道雷射熔覆塗層製備
5.2.2 單道雷射熔覆工藝探索與最佳化
5.2.3 影響雷射熔覆塗層質量的因素
5.2.4 熔覆塗層組織與凝固行為分析
5.2.5 熔覆塗層矽含量測定及硬度分布
5.3 多道搭接雷射熔覆塗層的製備技術
5.3.1 多道搭接雷射熔覆塗層製備
5.3.2 影響雷射熔覆塗層質量的因素
5.3.3 雷射熔覆塗層中存在的缺陷
5.3.4 熔覆塗層顯微組織分析
5.3.5 熔覆塗層凝固行為分析
5.3.6 熔覆塗層微結構分析
5.3.7 熔覆塗層矽含量測定及硬度分布
5.4 退火處理雷射熔覆高矽塗層磁性能研究
5.4.1 鐵磁性物質磁飽和及磁滯現象
5.4.2 熔覆樣品擴散退火與表面相組成
5.4.3 熔覆退火樣品硬度與矽含量分布
5.4.4 熔覆退火樣品的室溫磁性能
第6章 工業鈦合金雷射表面改性技術
6.1 工業鈦合金簡介
6.2 雷射氮化改性技術研究
6.2.1 簡介
6.2.2 實驗材料及設備
6.2.3 雷射氮化工藝確定
6.2.4 氮化處理後表面物相及顯微硬度分布
6.2.5 雷射氮化樣品顯微硬度分布
6.2.6 氮化機制及合金成分對氮化影響
6.3 雷射熔覆製備耐磨塗層技術
6.3.1 雷射熔覆技術簡介
6.3.2 鈦合金表面雷射熔覆技術研究進展
6.3.3 雷射熔覆TiCN/Ti陶瓷塗層工藝
6.3.4 雷射熔覆參數確定及熔覆層物相、組織結構
6.3.5 熔覆層力學性能
6.4 雷射誘導原位自生耐磨塗層技術
6.4.1 實驗材料及設備方法
6.4.2 原位自生熱力學判據及工藝確定：
6.4.3 原位自生塗層的物相標定、顯微結構及力學性能
第7章 醫用鈦合金表面雷射熔覆改性
7.1 醫用鈦合金表面改性簡介
7.2 雷射熔覆HA/Si（）2生物塗層
7.2.1 Si-HA塗層簡介
7.2.2 實驗材料及熔覆工藝確定
7.2.3 熔覆層表面形貌及物相標定
7.2.4 HA/Si（）2生物塗層的潤濕性
7.2.5 HA/Si（）2生物塗層的體外活性
7.3 雷射熔覆合成’FiCN/Ti3Si（：2複合生物塗層技術
7.3.1 原理及方法簡介
7.3.2 實驗過程及方法
7.3.3 掃描速度對熔覆層物相、組織結構及硬度影響
7.3.4 離焦量對熔覆層物相、顯微結構及硬度影響
7.3.5 熔覆層顯微結構及微區成分分析
7.4 TICNN/SiO 2生物塗層潤濕性及體外活性
7.4.1 引言
7.4.2 實驗設備
7.4.3 實驗過程及方法
7.4.4 潤濕性結果
7.4.5 SBF溶液浸泡後表面物相分析
7.4.6 SBF浸泡中離子沉積速率
7.4.7 SBF浸泡後沉積層表面形貌及微區成分分析
參考文獻
