基本介紹
- 中文名：李興鰲
- 性別：男
- 籍貫：湖北利川
- 民族：土家族
人物介紹,學習工作經歷,教學成果,研究領域與成果,研究方向,教學培養,獎勵與榮譽,主要學術成績,主要研究項目,代表性著作,
人物介紹
學習工作經歷
1984年7月在湖北民族學院參加工作。1996年1月晉升為副教授，2001年1月晉升為教授。1998年被評為湖北省跨世紀學術骨幹，2004年被評為湖北省有突出貢獻中青年專家。現為湖北省物理學會理事、《大學物理》雜誌編委。2008年8月開始在南京郵電大學工作。
教學成果
先後在《Journal of Physics D》、《Journal of Material Science & Technology》、《Plasma Science & Technology》、《Nanoscience》、《物理》、《大學物理》、《自然辯證法研究》等國內外學術刊物上發表了學術論文40多篇。其中SCI、EI、ISTP三大檢索收錄10餘篇。獲全國首屆大學物理教學優秀論文獎一項、湖北省自然科學優秀學術論文獎一項。主編教材一部，參加國家自然科學基金項目兩項，主持國家民委重點項目一項，主持和參與湖北省教育廳科研項目六項。
研究領域與成果
研究方向
主要研究領域為光學、凝聚態物理、材料物理等學科領域，研究方向為光電信息材料與器件。
教學培養
主講課程碩士研究生課程“數學物理方法”，本科生課程“量子與統計物理”、“量子力學”、“大學物理”、“物理學前沿與發展”等。
目前指導碩士研究生9名。
獎勵與榮譽
1、1998年湖北省教育廳批准為湖北省跨世紀學術骨幹；
2、2002年獲全國首屆大學物理教學優秀論文三等獎一項；
3、2002年獲湖北省第九屆自然科學優秀論文三等獎一項；
4、2004年獲“湖北省有突出貢獻中青年專家”稱號；
5、2008年獲湖北省第十二屆自然科學優秀論文二等獎一項；
6、2009年獲湖北省優秀教學成果三等獎一項
主要學術成績
長期從事光電功能薄膜材料的製備及套用研究，對磁控濺射製備半導體薄膜、多鐵性薄膜有所研究，尤其對磁控多靶反應共濺射製備摻雜薄膜有較多的研究。近年來，在國內外期刊上公開發表論文40餘篇，主持和參與科研項目10餘項，申請專利3項。
主要研究項目
1、 化學氣相沉積法製備石墨烯的襯底選擇與生長調控（BK2010525），江蘇省科技廳自科基金項目，2010，09 -2013，09，主持；
2、 磁控多靶反應共濺射製備金屬摻雜氮化銅薄膜研究（08HB05），國家民委項目，2008，01 -2009，12，主持；
3、 磁控濺射製備鐵電磁薄膜研究（D200629002），湖北省教育廳自然科學重點項目，2006，01 -2008，12，主持；
4、 金屬摻雜氮化銅薄膜研究（NY208025），南京郵電大學引進人才項目，2009，01 -2010，12，主持；
5、 直流磁控濺射沉積薄膜的計算機模擬研究（D200529002），湖北省教育廳自然科學重點項目，2005，01 -2007，12，參與。
代表性著作
[1] Xing-Ao Li, Zu-Li Liu, Zuo-Bin Yuan, An-You Zuo, Jian-Ping Yang, Kai-Lun Yao. Study on Cu-X-N (X= Al, Fe and La) films prepared by reactive magnetron sputtering, Nanoscience, 2006, 11(4)276-280.
[2] Li Xing’ao, Liu Zuli, Zuo Anyou, Yuan Zuobin , Yang Jianping, Yao Kailun. Study on Al-doped copper nitride films prepared by reactive magnetron sputtering, J. Wuhan University of Technology -Mater. Sci. Ed. 2007, 22(3)446-449.
[3] Li Xing’ao, LIU Zuli, YAO Kailun, Reactive DC magnetron sputtering deposition of copper nitride thin film, Journal of Materials Science & Technology. 2007,23(4) 468-472.
[4] Li Xing’ao, Yang Jianping, Liu Zuli, Zuo Anyou, Yuan Zuobin, Yao Kailun. Study on La-doped copper nitride films prepared by reactive magnetron sputtering, Journal of Materials Science & Technology, 2009, 25(2)233-236.
[5] Xing’ao Li, Zuli Liu, Anyou Zuo, Zuobin Yuan, Jianping Yang and Kailun Yao. Bi4-xLaxTi3O12 ferroelectric thin films prepared by RF magnetron sputtering，Key Engineering Materials Vols. 2008:368-372
