本徵吸除是2011年公布的材料科學技術名詞。
| 中文名稱 | 本徵吸除 |
| 英文名稱 | intrinsic gettering |
| 定 義 | 利用矽片自身的因素引起的吸除效應。如採用高 - 低 - 高三步熱處理工藝在矽片內部形成高密度的氧沉澱，吸除矽片有源區有害雜質。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），元素半導體材料（三級學科） |
基本介紹
- 中文名：本徵吸除
- 外文名：intrinsic gettering
- 所屬學科：材料科學技術
- 公布年度：2011年
定義,出處,
定義
利用矽片自身的因素引起的吸除效應。如採用高?-?低?-?高三步熱處理工藝在矽片內部形成高密度的氧沉澱，吸除矽片有源區有害雜質。
出處
《材料科學技術名詞》。
