曹立新(中國科學院物理所研究員)

先後在日本東北大學金屬材料研究所、德國馬普固體研究所、法國歐洲同步輻射中心、和美國西北大學材料科學與工程系工作七年,套用X-射線同步輻射技術和掃描探針顯微鏡從事薄膜和表面科學的研究。獲2002年中國科學院“百人計畫”項目資助,於2004年回國工作。2003-2010年間任中國科學院物理研究所副研究員,2010年任研究員。

主要研究方向: 鐵基超導體薄膜的製備和物理性質。氧化物異質結的生長過程、結構特徵化和物理性質。

基本介紹

  • 中文名曹立新
  • 國籍:中國
  • 出生日期:1968年6月
  • 畢業院校:中國科學院物理研究所
個人成就,研究課,

個人成就

過去的主要工作及獲得的成果
(1)首次用磁控濺射方法製備超導體和鐵電體異質結異質結,獲得較大的電場調製度(場效應)。
曹立新
(2)從理論上推導了外應力場和鐵電體、反鐵電體的介電性的關係;觀測到鐵電體 / 高溫超導體異質結中鐵電體層伴隨超導相變的介電反常,並給予了理論解釋。
(3)利用同步輻射X-射線表面衍射技術和倒空間繪圖方法研究了不同材料和取向的單晶襯底上生長的RBa2Cu3O7薄膜生長過程中的結構形態特徵。首次在低於臨界厚度的贗型模式生長的超薄膜中觀察到納米尺度的結構調製。
(4)利用同步輻射光源條件下的X-射線駐波法對Si28、Si30和Ge70、Ge76等同位素單質的點陣常數進行了系統測定,首次以這種現代技術手段獲得同位素效應對晶體點陣常數的影響這一量子力學效應(點陣常數變化在10-5量級以至更小)。
(5)率先製備出單相超導的鐵基外延薄膜,並系統研究了其生長和物理性質。發現被認為不超導的母體材料FeTe在薄膜狀態下超導。
在SCI收錄的雜誌上發表文章70餘篇,其中Phys. Rev. Lett.兩篇,Phys. Rev. B十篇。
Y. Han, W.Y. Li, and L.X. Cao et al, Phys. Rev. Lett. 104, 017003 (2010).

研究課

題目前的研究課題及展望
承擔中國科學院"百人計畫"(2002年)、國家重大科學研究計畫(973)量子調控研究、國家自然科學基金等研究項目。研究高溫超導體、鐵電體、超大磁電阻材料等複合集成的氧化物異質結的生長過程、結構和物理性質,研究鐵基超導薄膜的製備和物理性質。研究贗型生長的氧化物超薄膜中的納米尺度的結構調製。利用超高真空掃描探針顯微鏡觀測研究氧化物薄膜和異質結原位生長過程中的生長模式和表面界面形態。研究高溫氧化物超導體和超大磁電阻材料的異質結的電、磁界面效應和量子過程。
培養研究生情況: 國外工作期間,曾協助培養碩士生2名、博士生2名。回國工作後,曾協助培養畢業博士生2名。2009年培養畢業博士生2名。

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