曲面磁流變拋光技術

曲面磁流變拋光加工原理如圖所示。MR 液傳送帶下面的磁極在工件與傳送帶所形成的小空隙附近形成一個高梯度磁場。當具有較高運動速度的MR 液被傳送至小空隙附近時，高梯度磁場使之成為粘塑性的賓漢介質並在工件表面與之接觸的區域產生很大的剪下力，從而實現材料去除。在拋光過程中，通過控制工件在MR 液的掃過速率(或停留時間)可實現工件表面的選擇性去除。

MRF 具有材料去除特性恆定、加工效率較高(加工光學玻璃時典型材料去除率為10 μm/min)、加工表面質量高、加工碎屑實時去除等優點。北京理工大學程灝波等使用MRF加工K9材質的直徑60 mm 的拋物面，表面粗糙度經過10 min 加工由Ra 3.8 nm降至Ra 1.2 nm,面型精度P-V值經過1h加工由7.89μm降至2.01μm。

MRF利用磁流變液（或稱MR液，由磁性顆粒、基液和穩定劑組成的懸浮液）在磁場中可受外加磁場強弱控制的流變特性對工件進行拋光。