曝光劑量修正

曝光劑量修正（dose mapper, DOMA）是ASML光刻機的一項功能，它能對曝光劑量做修正，提高曝光區域之間和曝光區域內部的線寬均勻性（inter-field CDU）和（intra-field CDU）。具體的做法是，首先測量整個晶圓上的線寬數據，然後把這些數據上載到光刻機DOMA伺服器。伺服器根據事先設定的（線寬-曝光能量關係）參數，計算出曝光劑量的修正值在晶圓表面的分布。這一曝光劑量的修正以子程式（dosemapper sub-recipe）的方式連結在下一次的曝光檔案中。

基本介紹

• 中文名：曝光劑量修正
• 外文名：Dose mapper
• 所屬學科：光學

曝光劑量的修正包括兩個部分：一個是不同曝光區域之間的修正，即根據平均線寬的不同，對曝光區域加一個劑量修正（見概述圖）。另一個是曝光區域內部的修正，這個比較複雜。導致曝光區域內部CD不均勻的原因可能有兩個：一個是沿曝光縫隙（exposure slit）曝光能量的不均勻，即X方向CD的不均勻性；另一個是曝光掃描時能量的不均勻，即Y方向CD的不均勻性（見圖2）。X方向的線寬不均勻性可以通過調整光強沿縫隙的分布來補償，這種光強修正被稱為“Unicom”。Y方向的線寬不均勻性可以通過調整掃描的速度來補償，這種修正被稱為“Dosicom”。

圖2 曝光區域內部的能量不一樣（intra-field修正）

為了精確地確定沿曝光縫隙的光強分布，一般要求沿縫隙（X方向）測量11個點，而掃描方向（Y方向）測量33個點。然後，對Y方向測量的點做平均，得到光強沿縫隙的分布，如圖3所示。

圖3 自由形式光源示意圖

Intra-field CD能夠通過晶圓的CD反饋到DOMA程式加以修正，這種修正是基於標記點和掃描誤差來確定。掃描誤差包括照明的不均勻性和透鏡畸變。但是，通過上述兩種方法來做修正這個過程是冗長繁瑣的。一種新穎的方法是把晶圓格線化並測量曝光情況，把這個測量檔案作為校正檔案加入到DOMA。這個校正檔案包含傳輸圖和CD特性。