一種用於調節製作半導體晶片的CMP裝置的拋光墊的裝置,該裝置包括構造成至少部分地在一拋光墊之上延伸的一控制臂。該裝置還包括連線至控制臂的至少一個圓柱形調節件,該控制臂構造成將所述至少一個圓柱形調節件施加至拋光墊。