微電子製造技術實驗教程

《微電子製造技術實驗教程》是2015年科學出版社出版的圖書，作者是王姝婭、戴麗萍、鐘志親 。

基本介紹

• 書名：微電子製造技術實驗教程
• 作者：王姝婭、戴麗萍、鐘志親  
• 出版社：科學出版社
• 出版時間：2015年06月
• 頁數：168 頁 
• 定價：29 元
• 開本：約 16 開
• 裝幀：平裝
• ISBN：9787030444943
• 版本：1 
• 責任編輯：成都辦事處
• 字數：200千字
• 書類：冊/包
• 編輯部：成都辦事處
• 叢書名：電子信息材料與器件規劃教材

內容簡介

《微電子製造技術實驗教程》是面向微電子及相關專業的實驗教程，以微電子器件製造過程為主線，重點闡述學生在微電子製造技術學習中必須掌握的基礎知識和實驗方法。第1、2章介紹清洗、氧化、擴散、離子注入、光刻、刻蝕、沉積等相關製造工藝的基礎知識和基礎實驗，詳細闡述各項單步工藝的實驗原理、實驗設備、實驗方法和步驟。第3章介紹微電子器件製造過程中的物理性能測試實驗和電學性能測試實驗。第4章介紹二極體、肖特基二極體、三極體、CMOS管、集成電阻器等器件的製造以及集成運算放大器的參數測試、邏輯IC功能和參數的測試兩個綜合實驗。《微電子製造技術實驗教程》共28個實驗項目，各實驗相互獨立，不同學校可根據實際實驗條件選用。

圖書目錄

封面

微電子製造技術實驗教程

內容簡介

出版說明

《微電子專業實驗教材系列叢書》編委會

第1章基礎知識1

1.1矽片1

1.2清洗2

1.3氧化4

1.4擴散7

1.5離子注入11

1.6光刻13

1.7刻蝕18

1.8化學氣相沉積22

1.8.1APCVD22

1.8.2LPCVD23

1.8.3PECVD25

1.9物理氣相沉積29

1.9.1蒸發29

1.9.2磁控濺射31

第2章基礎工藝實驗33

2.1清洗工藝實驗33

2.1.1實驗目的33

2.1.2實驗原理33

2.1.3實驗內容34

2.1.4實驗設備與器材34

2.1.5實驗步驟34

2.1.6注意事項35

2.1.7思考題35

2.2氧化工藝實驗35

2.2.1實驗目的35

2.2.2實驗原理36

2.2.3實驗內容37

2.2.4實驗設備與器材37

2.2.5實驗步驟37

2.2.6注意事項38

2.2.7思考題38

2.3擴散工藝實驗39

2.3.1實驗目的39

2.3.2實驗原理39

2.3.3實驗內容40

2.3.4實驗設備與器材40

2.3.5實驗步驟40

2.3.6注意事項41

2.3.7思考題41

2.4離子注入實驗41

2.4.1實驗目的41

2.4.2實驗原理41

2.4.3實驗內容43

2.4.4實驗設備與器材43

2.4.5實驗步驟43

2.4.6注意事項43

2.4.7思考題43

2.5光刻實驗44

2.5.1實驗目的44

2.5.2實驗原理44

2.5.3實驗內容44

2.5.4實驗設備與器材45

2.5.5實驗步驟45

2.5.6注意事項45

2.5.7思考題45

2.6濕法刻蝕工藝實驗46

2.6.1矽刻蝕46

2.6.2濕法刻蝕實驗48

2.6.3氮化矽的刻蝕50

2.6.4鋁刻蝕52

2.7乾法刻蝕實驗53

2.7.1實驗目的53

2.7.2實驗原理54

2.7.3實驗內容56

2.7.4實驗設備與器材56

2.7.5實驗步驟56

2.7.6注意事項58

2.7.7思考題58

2.8化學氣相沉積實驗58

2.8.1LPCVD製備Si3N4、SiO2薄膜及非晶矽薄膜58

2.8.2PECVD製備Si3N4、SiO2薄膜及非晶矽薄膜60

2.9金屬薄膜製備實驗63

2.9.1電子束蒸發工藝實驗63

2.9.2磁控濺射工藝實驗65

2.10金屬剝離工藝實驗68

2.10.1實驗目的68

2.10.2實驗原理68

2.10.3實驗內容69

2.10.4實驗設備與器材69

2.10.5實驗步驟70

2.10.6注意事項70

2.10.7思考題70

第3章基礎測試實驗71

3.1物理性能測試實驗71

3.1.1SiO2厚度測試實驗71

3.1.2方塊電阻的測量實驗74

3.1.3結深的測量實驗78

3.2電學性能測試80

3.2.1晶圓級二極體性能測試實驗84

3.2.2晶圓級雙極型電晶體性能測試實驗86

3.2.3晶圓級MOS管性能測試實驗89

第4章微電子製造綜合實驗93

4.1二極體製造實驗93

4.1.1實驗目的93

4.1.2實驗原理93

4.1.3實驗內容97

4.1.4實驗設備與器材97

4.1.6實驗注意事項99

4.1.7思考題99

4.2肖特基二極體製造試驗100

4.2.1實驗目的100

4.2.2實驗原理100

4.2.3實驗內容102

4.2.4實驗設備與器材103

4.2.5實驗步驟103

4.2.6實驗注意事項104

4.2.7思考題104

4.3三極體製造實驗104

4.3.1實驗目的104

4.3.2實驗原理105

4.3.3實驗內容109

4.3.4實驗設備與器材109

4.3.5實驗步驟109

4.3.6實驗注意事項111

4.3.7思考題111

4.4CMOS管制造實驗111

4.4.1實驗目的111

4.4.2實驗原理111

4.4.3實驗內容116

4.4.4實驗設備與器材116

4.4.5實驗步驟117

4.4.6實驗注意事項118

4.4.7思考題119

4.5集成電阻器製造實驗119

4.5.1實驗目的119

4.5.2實驗原理120

4.5.3實驗內容124

4.5.4實驗設備與器材124

4.5.5實驗步驟124

4.5.6實驗注意事項126

4.5.7思考題126

4.6集成運算放大器參數測試實驗126

4.6.1實驗目的126

4.6.2實驗原理127

4.6.3實驗內容128

4.6.4實驗設備與器材128

4.6.5實驗步驟129

4.6.6思考題134

4.7邏輯IC功能和參數測試實驗134

4.7.1實驗目的134

4.7.2實驗原理134

4.7.3實驗內容146

4.7.4實驗設備與器材147

4.7.5實驗步驟148

4.7.6思考題152

主要參考文獻153

封底