微控四管擴散爐

微控四管擴散爐是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2002年12月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：微控四管擴散爐
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2002年12月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

1.樣品尺寸：4英寸； 2.工作溫度範圍：300-1200°C； 3.恆溫區長度及精度：760mm/±1°C； 4.升溫時間（室溫升至1200°C）：≤60min； 5.最大可控升溫速度：15°C/min； 6.最大降溫速度：5°C/min； 7.最大升溫功率：24KVA。

主要功能

用於MEMS加工工藝過程中矽片氧化、擴散、合金、退火等工藝。