形貌襯度

是在SEM中，由於試樣表面形貌差異而形成的襯度。

基本介紹

• 中文名：形貌襯度
• 外文名：Topographic Contrast
• 地方：SEM
• 類型：調製信號

形貌襯度 (Topographic Contrast)

利用對試樣表面形貌變化敏感的物 理信號如二次電子、背散射電子等作為顯像管的調製信號，可以得到形貌襯 度像。其強度是試樣表面傾角的函式。而試樣表面微區形貌差別實際上就是 各微區表面相對於入射束的傾角不同，因此電子束在試樣上掃描時任何二點 的形貌差別，表現為信號強度的差別，從而在圖像中形成顯示形貌的襯度。 二次電子像的襯度是最典型的形貌襯度。