《廣義離散偏差在試驗設計中的套用研究》是依託華中師範大學，由覃紅擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：廣義離散偏差在試驗設計中的套用研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：覃紅
- 依託單位：華中師範大學
項目摘要,結題摘要,
項目摘要
偏差已成功地套用於試驗設計中，其中均勻設計就是一種基於偏差的計算機試驗和模型未知的穩健試驗，它被廣泛地用於國防、農業、工業、高技術創新等領域中的具體實驗，已取得了顯著的經濟效益和社會效益。本項目里，我們將在已有的工作基礎上，深入研究基於廣義離散偏差的均勻設計、漸近貝葉斯設計的統計合理性，研究混水平均勻設計的構造方法，並將所構造出的均勻設計套用到計算機試驗等實際問題中去。因此，本項目的研究不僅會進一步豐富均勻設計、漸近貝葉斯設計的理論和方法，而且還可以為偏差在試驗設計中套用尋找到新的途徑。
結題摘要
偏差已成功地套用於試驗設計中，其中均勻設計就是一種基於偏差的計算機試驗和模型未知的穩健試驗，它被廣泛地用於國防、農業、工業、高技術創新等領域中的具體實驗，已取得了顯著的經濟效益和社會效益。 本項目里系統地研究了廣義離散偏差，特別是中心化L2偏差、可卷型L2偏差、Lee偏差、混合偏差和離散偏差在試驗設計中的套用。具體地，給出了二、三、四等水平設計的混合偏差、三等水平設計的可卷型L2偏差、四等水平設計的中心化L2偏差以及二三混水平設計的中心化L2偏差、可卷型L2偏差、Lee偏差、混合偏差的下界。這些下界既可以作為計算機搜尋、構造均勻設計的基準，也可用來評價一個給定的設計是否真正達到均勻。利用廣義離散偏差，給出了尋找最優（均勻）貝葉斯U型非對稱設計的充分必要條件以及其他的一些理論成果。基於廣義離散偏差、離散偏差和Lee偏差，給出了不同形式的均勻性模式定義和最小低階投影均勻性準則，並給出了他們的統計合理性，進一步發展和完善了均勻性模式及其理論。給出了幾種均勻設計特別是混水平均勻設計的構造方法，豐富了均勻設計的構造理論和構造方法。給出了偏差在double技術和序貫試驗套用的一些理論結果。 本項目共完成學術論文39篇，其中在SCI檢索期刊發表和錄用待發表論文34篇；指導完成博士學位論文3篇，碩士學位論文11篇；項目主持人入選享受國務院政府特殊津貼專家。
