平面工藝

這是60年代發展起來的一種非常重要的半導體技術。該工藝是在Si半導體晶片上通過氧化、光刻、擴散、離子注入等一系列流程，製作出電晶體和積體電路；器件和電路都是在晶片表面一層附近處，整個晶片基本上保持是平坦的（實際上，表面上存在許多台階）；製作出的電晶體稱為平面電晶體（相對於台面電晶體而言），故稱相應的製作工藝為平面工藝。

現在平面工藝已經是製造各種半導體器件與積體電路的基本工藝技術。