對準式納米熱壓印及紫外納米壓印設備

對準式納米熱壓印及紫外納米壓印設備

對準式納米熱壓印及紫外納米壓印設備是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2014年12月10日啟用。

基本介紹

  • 中文名:對準式納米熱壓印及紫外納米壓印設備
  • 產地:中國
  • 學科領域:信息與系統科學相關工程與技術
  • 啟用日期:2014年12月10日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

1、可實現最大6英寸全面積熱壓印; 2、壓印精度:20nm; 3、設備真空度:0.01kpa; 4、對準精度:±1um。1、全自動壓印過程; ???? 2、PLC作業系統控制; ??? 3、4″ 壓印面積; ? 4、紫外汞燈光源; ? 5、自動脫模; ?? 6、PDMS軟壓印模具壓印。

主要功能

該儀器解析度不受光波波長、物鏡數值孔徑等因素限制,可突破傳統光刻工藝的解析度極限。可重複在大面積上製作納米圖形結構,有很好的均勻性與重複性。可常溫下進行,避免了熱膨脹因素,也縮短了壓印的時間;掩模板透明,易於實現層與層之間對準,層與層之間的對準精度可以達到50?nm,適合半導體產業的要求。

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