大腔室物理氣相沉積系統

大腔室物理氣相沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年10月31日啟用。

基本介紹

• 中文名：大腔室物理氣相沉積系統
• 產地：荷蘭
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年10月31日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

基本圖層工藝：CrN、CrCN、CrAlN等；腔室工作溫度：室溫~500℃；有效鍍膜空間：500*500；轉台工作方式:三重旋轉；轉台轉速範圍：0~4rpm；背底真空度：≤5*10(-3)材料。

主要功能

表面鍍膜。