多功能超高真空薄膜製備平台是一種用於物理學領域的計量儀器，於2017年7月7日啟用。
多功能超高真空薄膜製備平台是一種用於物理學領域的計量儀器，於2017年7月7日啟用。技術指標KYKY-C500。1主要功能集超高真空多靶磁控濺射及多功能分子束蒸發於一體，可精確控制外延層薄膜的厚度和組分，可對薄膜外延生長...
多功能超高真空制樣系統 多功能超高真空制樣系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2008年6月30日啟用。技術指標 真空度10^-5 Pa。主要功能 有機/無機薄膜蒸鍍。
光電薄膜製備-真空室是一種用於核科學技術、物理學領域的科學儀器，於2006年1月1日啟用。技術指標 漏率≤2×10↑-10 Torr`L/S,水冷、工作溫度≤450℃。該設備由7台連續鍍膜真空室組成。1號室為進料室，2號室有兩個靶位，3號...
超高真空多功能磁控濺射設備是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2000年6月4日啟用。技術指標 1．極限真空：7×10-6Pa2．磁控靶：Φ英寸×5隻（永磁）3．靶—基距：20—100mm4．基片架：直接水冷，可轉動5．...
有機光電薄膜與器件多功能蒸鍍系統是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器，於2013年3月20日啟用。技術指標 工作真空度10-4Pa以下；蒸鍍薄膜厚度可控制薄到幾個納米厚度。主要功能 高真空度條件下光點功能薄膜生長製備以及電極沉積；...
主要功能 該設備為三室立式結構的超高真空多功能磁控與離子束聯合濺射鍍膜製備設備，可用於開發納米級的單層及多層功能膜-各種硬質膜、光學膜、金屬膜、半導體膜、磁性薄膜、介質膜和氧化物薄膜等。系統主要由磁控濺射室、磁控濺射靶2英寸4...
4英寸）1片。主要功能 可製備包括各種金屬、半導體、鐵磁材料,以及絕緣的氧化物、陶瓷等物質的最薄可達納米層厚的薄膜，其操作簡便，穩定性好。是我院多個課題組的急需的關鍵設備之一。除滿足我院相關課題組納米薄與納米多層膜製備的...
真空多功能濺射設備 真空多功能濺射設備是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的計量儀器，於2013年07月22日啟用。技術指標 *4、脈寬：主要功能 主要用於各種金屬，氧化物的納米薄膜的製備和氧化。
