塔爾博特定律(Talbot-Plateau law)是2020年發布的醫學影像技術學名詞。
基本介紹
- 中文名:塔爾博特定律
- 外文名:Talbot-Plateau law
- 所屬學科:醫學影像技術學
- 公布時間:2020年
- 屬性:醫學影像技術學名詞
塔爾博特定律(Talbot-Plateau law)是2020年發布的醫學影像技術學名詞。
塔爾博特定律(Talbot-Plateau law)是2020年發布的醫學影像技術學名詞。定義 人眼對於高頻率的間斷光和連續光都能感受到穩定的光感覺。間斷光與連續光的光總量(光的呈現時間與光強的乘積)相等,則兩者的明度相當。高頻率的間斷光和連續光在主觀上都能引起穩定光的感覺,但只要它們的光總量,即光的呈現時間與光強...
從Talbot’slaw (塔爾博特定律)到typeIIsuperconductor (第二類超導體)從ultraviolet-assistednanoimprintlithography (UV-NIL) (紫外光輔助納米壓印光刻)到Urbachrule (烏爾巴赫定則)從vacancy (空位)到vonNeumannmachine (馮·諾依曼計算機)從Waidner-Burgessstandard (魏德納伯吉斯標準)到Wyckoffnotation (威科夫記號)從XMCD...
T/368從Talhot's law(塔爾博特定律)到typeⅡsuperconductor(第二類超導體)U/381從ultraviolet—assisted nanoimprint lithography(UV—NIL)(紫外光輔助納米壓印光刻)到Urbach rulc(烏爾巴赫定則)V/388從vacancy(空位)到vonNeumann macHne(馮·諾依曼計算機)W/393從Waidner—Burgcss standard(魏德納—伯占斯...
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