場發射電子探針是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器，於2017年1月9日啟用。
基本介紹
- 中文名：場發射電子探針
- 產地：日本
- 學科領域：冶金工程技術
- 啟用日期：2017年1月9日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子探針
技術指標,主要功能,
技術指標
30KV，空間解析度0.1微米。
主要功能
成分分析、形貌觀察。
場發射電子探針
相關詞條
- 場發射電子探針
場發射電子探針是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器，於2017年1月9日啟用。技術指標30KV，空間解析度0.1微米。1主要功能成分分析、形貌觀察。1...
- Cameca場發射電子探針儀
Cameca場發射電子探針儀是一種用於環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，於2016年4月19日啟用。技術指標 波長範圍：0.087～9.3 nm；定量分析檢測極限100ppm 。二次電子像解析度為6nm 。背散射電子像解析度為20 nm。主要功能 對B-U(5-92)號元素組成的固體樣品進行定性,定量 , 線 , 面分析及相分析。
- 高分辨場發射電子探針
高分辨場發射電子探針 高分辨場發射電子探針是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2015年7月13日啟用。技術指標 1. 加速電壓範圍為5~30 kV；2. 分析F~U間的元素；3. 主量元素測試誤差小於1.5%。主要功能 該儀器不僅能對礦物進行背散射電子圖像和二次電子圖像觀察，還能對礦物成分進行高精度的點、線和面分析。
- 電子探針顯微系統
電子探針顯微系統是一種用於化學、材料科學、物理學領域的分析儀器，於2019年6月30日啟用。技術指標 （1）二次電子像解析度：≤ 3 nm（加速電壓30 kV）；（2）背散射電子像解析度：≤ 20 nm（拓撲像、成分像）；（3）電子槍：肖特基場發射電子槍；（4）加速電壓：0.5～30 kV；（5）最大束流：≥3 μA；...
- 高分辨場發射透射電子顯微分析系統
高分辨場發射透射電子顯微分析系統是一種用於物理學、化學領域的分析儀器，於2012年5月20日啟用。技術指標 點解析度：0.205 nm ， 線解析度：0.102 nm 加速電壓：300 kV放大倍數：2000 X ~ 1,000,000 X。主要功能 TEM形貌觀察（Transmission Electronic Microscope）普通透射形貌觀察，高分辨透射形貌觀察（HRTEM，...
- 掃描電子顯微鏡
由於不少掃描電鏡電子探針實現了電子計算機自動和半自動控制，因而大大提高了定量分析的速度。基本原理 掃描電子顯微鏡電子槍發射出的電子束經過聚焦後匯聚成點光源；點光源在加速電壓下形成高能電子束；高能電子束經由兩個電磁透鏡被聚焦成直徑微小的光點，在透過最後一級帶有掃描線圈的電磁透鏡後，電子束以光柵狀掃描的...
- 掃描電鏡和電子探針的基礎及套用
《掃描電鏡和電子探針的基礎及套用》是2009年上海科學技術出版社出版的圖書，作者是曾毅。內容簡介 本書主要通過研究工作的實例，介紹了掃描電鏡和電子探針在材料研究，尤其是無機非金屬材料研究中的套用。全書共分7章，內容涉及掃描電鏡和電子探針的基礎，以及掃描電鏡和電子探針在古陶瓷研究、C/SiC複合材料、生物塗層...
- 武漢科技大學分析測試中心
中心儀器設備配套齊全，擁有JEM-F200高分辨透射電鏡、AXIS Supra⁺ X射線光電子能譜儀、Apreo S Hivac場發射掃描電鏡（含牛津AZtec Ultim Live 100能譜儀和Symmetry 電子背散射衍射儀）、EPMA-8050G場發射掃描電子探針、SmartLab SE高溫X射線衍射儀、ZSXPrimus IV X射線螢光光譜儀、inVia Qontor雷射顯微共聚焦拉曼...
- 散射束錐角
120kV,100kV分析電鏡，場發射槍掃描透射電鏡及能量選擇電鏡等，透射電鏡將又一次面臨新的重大突破；掃描電子顯微鏡方面主要有：分析掃描電鏡和X射線能譜儀、X射線波譜儀和電子探針儀、場發射槍掃描電鏡和低壓掃描電鏡、超大試樣室掃描電鏡、環境掃描電鏡、掃描電聲顯微鏡、測長/缺陷檢測掃描電鏡、晶體學取向成像掃描電子...
