基於離子束刻蝕法的寬頻連續可調諧半導體量子點光源

《基於離子束刻蝕法的寬頻連續可調諧半導體量子點光源》是依託復旦大學,由陸明擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:基於離子束刻蝕法的寬頻連續可調諧半導體量子點光源
  • 依託單位:復旦大學
  • 項目類別:面上項目
  • 項目負責人:陸明
  • 負責人職稱:教授
  • 批准號:60776038
  • 申請代碼:F0403
  • 研究期限:2008-01-01 至 2008-12-31
  • 支持經費:7(萬元)
項目摘要
離子束刻蝕法是一種新型的自組織量子點生成方法。寬頻的連續可調諧緊湊型固體光源一直是人們追求的目標。項目將基於前期基礎研究工作,利用該方法生成的自組織半導體量子點陣具有高密度和量子點尺寸精確可控的特點,根據量子尺寸效應原理,開展發光波長大範圍連續可調的半導體量子點光源包括一種相關的Si納米柱陣列研究。該研究將為最終實現寬頻連續可調諧半導體量子點雷射器奠定基礎,在信息,國防,醫學等領域具有重要意義。

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